[发明专利]一种配置清洗设备的离子源刻蚀腔室及离子束清洗方法

权利要求书

1.一种配置清洗设备的离子源刻蚀腔室，该刻蚀腔室由反应腔及离子源固定腔组成；反应腔与离子源固定腔相互连通；反应腔内的中心处设有摇摆电极，离子源固定腔内没有离子源；反应腔与离子源固定腔的连通处之间设有挡板；挡板通过外部电机驱动旋转从而移动至离子源的发射束端；反应腔的底部与分子真空泵相互连通；其特征在于：所述的反应腔上设有若干个离子束发生器；离子束发生器外部充气装置及控制相连；通过离子束对刻蚀腔室内进行污染物清洗；

所述的离子束发生器包括屏蔽筒，绝缘筒，线圈，离子射频电源，射频匹配器；所述的屏蔽筒布置在该刻蚀腔室的反应腔外侧且与反应腔相互贯通；屏蔽筒内设有绝缘筒，绝缘筒的外侧围绕线圈；屏蔽筒及绝缘筒上设有气体接口，气体接口与外部气体流最计相互连通；气体流量计对应连通气罐；气体流量计与控制器相连；控制器控制等离子射频电源，等离子射频电源驱动射频匹配器，射频匹配器与线圈相连，射频匹配器向线圈通入射频功率；

所述的反应腔上的离子束发生器为若干个，若干个离子束发生器中的每个屏蔽筒内分别布置绝缘筒，绝缘筒的外侧围绕线圈；每个屏蔽筒及绝缘筒上设有气体接口，每个气体接口分别与外部气体流量计相互连通；

所述的若干个离子束发生器分别单独设置离子射频电源与射频匹配器，或若干个离子束发生器中相邻的离子束发生器设置一个离子射频电源与射频匹配器；

所述的线圈外部的屏蔽筒完全遮蔽线圈；线圈由铜材制成，线圈的表面经过为镀金或镀银处理；所述的线圈由一根线材呈螺旋式上升状方式进行缠绕；或由根线圈进行交替缠绕且首尾相接耦合而成；

所述的线圈与外侧屏蔽筒之间设有一定间距；

配置清洗设备的离子源刻蚀腔室的离子束清洗方法，步骤如下：

步骤一、当离子束刻蚀系统进行完刻蚀工艺之后，关闭离子源，取出工艺片；

步骤二、在摇摆电极的载片端面放置衬底；

步骤三、往反应腔内充入气体，并保持稳定的腔压；

步骤四、开启单个或多个离子束发生器，通入射频功率形成稳定的电磁场；

步骤五、气体在电磁场作用下被电离，形成活性气体原子，活性气体原子沿者路径进入反应腔室内部并且迅速蔓延，带走所有暴露的碳基颗粒及其他污染物；

步骤六、关闭单个或多个离子束发生器，停止气体通入，取出衬底片；清洗结束；

采用多个离子束发生器进行清洗时，每个离子束发生器的工作时间相同；

采用多个离子束发生器进行清洗时，可分别控制每个离子来发生器的工作时间，多个离子束发生器的工作时间非一致；

采用多个离子束发生器进行清洗时，每个采用多个离子束发生器之间为跳跃式启动模式，或多个离子束发生器采用间隔式启动模式。