[发明专利]一种电磁兼容性强的空间光学成像系统在审

专利信息
申请号: 201910865340.3 申请日: 2019-09-12
公开(公告)号: CN110737062A 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 杨磊;王浩;梅超;史魁;闫阿奇;冯佳 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G02B7/00 分类号: G02B7/00
代理公司: 61211 西安智邦专利商标代理有限公司 代理人: 唐沛
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 成像系统 空间光学 导电滤光片 镜头 氧化铟锡膜层 电磁兼容性 内部传感器 玻璃表面 电磁泄露 屏蔽效果 镀设 胶粘 增设 玻璃
【说明书】:

发明公开了一种电磁兼容性强的空间光学成像系统,解决了由于空间光学成像系统中镜头部分屏蔽效果差,导致空间光学成像系统电磁泄露的问题。该空间光学成像系统包括基体以及镜头部分,基体与镜头部分连接的位置,且位于空间光学成像系统内部传感器之前增设导电滤光片;导电滤光片包括玻璃以及玻璃表面镀设的氧化铟锡膜层;导电滤光片采用胶粘的方式固定于所述基体上。

技术领域

本发明涉及一种光学成像系统,具体涉及一种电磁兼容性强的空间光学成像系统。

背景技术

电磁兼容涉及电磁能量的发射、传输和接收三个方面,这三个方面构成电磁兼容问题的基本框架。源产生辐射,传输途径或耦合将辐射能量传递到接收者,即“干扰源→干扰途径→被干扰对象”构成了电磁兼容问题的三要素。这三要素同时存在,电磁问题才会出现,而解决电磁兼容问题的方向也在这三要素中,也就是通常使用的滤波、屏蔽、接地。

其中,屏蔽体的总体屏蔽效能是由屏蔽体中最薄弱的环节决定的(通常情况下,屏蔽体中最薄弱的环节是各种缝隙和孔洞),要使屏蔽体的屏蔽效能达到某一个值,屏蔽体上所有部位都要达到这个值,即各部位屏蔽效能的匹配是十分重要的。

静电屏蔽应具有完善的屏蔽体和良好的接地;电磁屏蔽要求屏蔽体具有良好的导电连续性和良好的接地。

而在实际产品上有许多泄漏源,例如:不同部分结合处的缝隙通风口、显示窗、按键、指示灯、电缆线、电源线等,均属于泄漏源。

在空间光学成像系统中,由于空间光学成像系统的外壳部分均是采用金属材料制作而成,因此屏蔽效果较好,但是镜头部分作为空间光学成像系统的重要组成部分,由于镜头一般采用玻璃材质,不能与金属结构材料形成良好的导电性能,从而也成为了光学系统的泄漏源。

发明内容

为了解决背景技术提出的空间光学成像系统中镜头部分屏蔽效果差,导致空间光学成像系统电磁泄露的问题,本发明提供了一种电磁兼容性强的空间光学成像系统。

本发明的具体技术方案是:

本发明一种电磁兼容性强的空间光学成像系统,包括基体以及镜头部分,其改进之处在:在基体上与镜头部分连接的位置,且位于空间光学成像系统内部传感器之前增设导电滤光片;导电滤光片包括玻璃以及玻璃表面镀设的氧化铟锡膜层;导电滤光片采用胶粘的方式固定于所述基体上。

进一步地,上述导电滤光片通过高导电单组份RTV硅橡胶粘结于基体上。

进一步地,所述氧化铟锡膜层的阻值Rs需要满足以下关系式:

s=-10lgTc0

其中,s为自由空间中氧化铟锡膜层的屏蔽效率;

Tc0为光垂直入射至导电滤光片时氧化铟锡膜层的电磁透过率;

c是真空中的光速;

d是氧化铟锡膜层的厚度;

ε0是自由空间的介电常数;

σ0是氧化铟锡膜层材料的直流电导率;

377Ω是自由空间的阻抗。

进一步地,上述氧化铟锡膜层在其可见光区的透光率达80%以上。

本发明的有益效果是:

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