[发明专利]一种电磁兼容性强的空间光学成像系统在审
| 申请号: | 201910865340.3 | 申请日: | 2019-09-12 |
| 公开(公告)号: | CN110737062A | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
| 发明(设计)人: | 杨磊;王浩;梅超;史魁;闫阿奇;冯佳 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号: | G02B7/00 | 分类号: | G02B7/00 |
| 代理公司: | 61211 西安智邦专利商标代理有限公司 | 代理人: | 唐沛 |
| 地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 成像系统 空间光学 导电滤光片 镜头 氧化铟锡膜层 电磁兼容性 内部传感器 玻璃表面 电磁泄露 屏蔽效果 镀设 胶粘 增设 玻璃 | ||
本发明公开了一种电磁兼容性强的空间光学成像系统,解决了由于空间光学成像系统中镜头部分屏蔽效果差,导致空间光学成像系统电磁泄露的问题。该空间光学成像系统包括基体以及镜头部分,基体与镜头部分连接的位置,且位于空间光学成像系统内部传感器之前增设导电滤光片;导电滤光片包括玻璃以及玻璃表面镀设的氧化铟锡膜层;导电滤光片采用胶粘的方式固定于所述基体上。
技术领域
本发明涉及一种光学成像系统,具体涉及一种电磁兼容性强的空间光学成像系统。
背景技术
电磁兼容涉及电磁能量的发射、传输和接收三个方面,这三个方面构成电磁兼容问题的基本框架。源产生辐射,传输途径或耦合将辐射能量传递到接收者,即“干扰源→干扰途径→被干扰对象”构成了电磁兼容问题的三要素。这三要素同时存在,电磁问题才会出现,而解决电磁兼容问题的方向也在这三要素中,也就是通常使用的滤波、屏蔽、接地。
其中,屏蔽体的总体屏蔽效能是由屏蔽体中最薄弱的环节决定的(通常情况下,屏蔽体中最薄弱的环节是各种缝隙和孔洞),要使屏蔽体的屏蔽效能达到某一个值,屏蔽体上所有部位都要达到这个值,即各部位屏蔽效能的匹配是十分重要的。
静电屏蔽应具有完善的屏蔽体和良好的接地;电磁屏蔽要求屏蔽体具有良好的导电连续性和良好的接地。
而在实际产品上有许多泄漏源,例如:不同部分结合处的缝隙通风口、显示窗、按键、指示灯、电缆线、电源线等,均属于泄漏源。
在空间光学成像系统中,由于空间光学成像系统的外壳部分均是采用金属材料制作而成,因此屏蔽效果较好,但是镜头部分作为空间光学成像系统的重要组成部分,由于镜头一般采用玻璃材质,不能与金属结构材料形成良好的导电性能,从而也成为了光学系统的泄漏源。
发明内容
为了解决背景技术提出的空间光学成像系统中镜头部分屏蔽效果差,导致空间光学成像系统电磁泄露的问题,本发明提供了一种电磁兼容性强的空间光学成像系统。
本发明的具体技术方案是:
本发明一种电磁兼容性强的空间光学成像系统,包括基体以及镜头部分,其改进之处在:在基体上与镜头部分连接的位置,且位于空间光学成像系统内部传感器之前增设导电滤光片;导电滤光片包括玻璃以及玻璃表面镀设的氧化铟锡膜层;导电滤光片采用胶粘的方式固定于所述基体上。
进一步地,上述导电滤光片通过高导电单组份RTV硅橡胶粘结于基体上。
进一步地,所述氧化铟锡膜层的阻值Rs需要满足以下关系式:
s=-10lgTc0;
其中,s为自由空间中氧化铟锡膜层的屏蔽效率;
Tc0为光垂直入射至导电滤光片时氧化铟锡膜层的电磁透过率;
c是真空中的光速;
d是氧化铟锡膜层的厚度;
ε0是自由空间的介电常数;
σ0是氧化铟锡膜层材料的直流电导率;
377Ω是自由空间的阻抗。
进一步地,上述氧化铟锡膜层在其可见光区的透光率达80%以上。
本发明的有益效果是:
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