[发明专利]一种具有保温及中子、伽马电离辐射防护的装置在审
申请号: | 201910857747.1 | 申请日: | 2019-09-09 |
公开(公告)号: | CN112466498A | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 刘峰;邹之利;苏兴东;詹杰;刘夏杰 | 申请(专利权)人: | 中广核研究院有限公司;中国广核集团有限公司;中国广核电力股份有限公司 |
主分类号: | G21F3/00 | 分类号: | G21F3/00;F16L59/02;F16L59/08 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 张艳美;侯柏龙 |
地址: | 518000 广东省深圳市福田区上步中路*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 保温 中子 电离辐射 防护 装置 | ||
本发明提供了一种具有保温及中子、伽马电离辐射防护的装置,包括第一防护盒和第二防护盒,第一防护盒和第二防护盒围成一容纳空间,第一防护盒包括第一保温反射部和第一辐射屏蔽部,第一保温反射部沿轴向开设若干第一弧形槽,第一辐射屏蔽部嵌入第一弧形槽内;第二防护盒包括第二保温反射部和第二辐射屏蔽部,第二保温反射部沿轴向开设若干第二弧形槽,第二辐射屏蔽部嵌入第二弧形槽内;第一保温反射部和第二保温反射部均采用具有保温反射功能的金属材料制备,第一辐射屏蔽部和第二辐射屏蔽部均采用具有辐射屏蔽功能的材料制备。该申请的具有保温及中子、伽马电离辐射防护的装置,结构紧凑,拆装方便,保温和屏蔽佳,不易积累粉尘且方便清洗。
技术领域
本发明涉及电离辐射防护技术领域,更具体的涉及一种具有保温及中子、伽马电离辐射防护的装置。
背景技术
电离是指一个原子、分子或者其它束缚状态释放出一个或者多个电子的过程,它是由具有足够动能的微观粒子与原子中的电子碰撞而引起的。随着国防科研、放射性医学和核技术应用的不断发展,电离辐射已经广泛的应用于当代科学技术的许多领域,人们在享受由此而获得的巨大利益的同时,也避免不了的受到了辐射的危害,经常接触放射性射线的人会出现皮肤烧伤、毛发脱落、眼痛、白血球减少甚至骨髓瘤等症状。对于核电站厂房的管道而言,不仅要做到对中子、伽马电离辐射的防护,同时还要做到保温效果。目前,常常是将保温和辐射屏蔽材料分别施加于管道外层,一般采用硅酸铝、玻璃纤维等填充制成保温垫作为保温层,使用裸露的铅皮进行屏蔽作用,而铅材料具有毒性,容易迁移,危害工作人员的健康,同时屏蔽层易积累粉尘且不方便清洗。
因此,有必要提供一种具有保温及中子、伽马电离辐射防护的装置以解决现有的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有保温及中子、伽马电离辐射防护的装置,该结构紧凑,拆装方便,保温和屏蔽佳,不易积累粉尘且方便清洗。
为实现上述目的,本发明提供了一种具有保温及中子、伽马电离辐射防护的装置,包括第一防护盒和与所述第一防护盒相连的第二防护盒,所述第一防护盒和所述第二防护盒围成一容纳空间,所述第一防护盒包括第一保温反射部和第一辐射屏蔽部,所述第一保温反射部沿轴向开设若干第一弧形槽,所述第一辐射屏蔽部嵌入所述第一弧形槽内;所述第二防护盒包括第二保温反射部和第二辐射屏蔽部,所述第二保温反射部沿轴向开设若干第二弧形槽,所述第二辐射屏蔽部嵌入所述第二弧形槽内;所述第一保温反射部和第二保温反射部均采用具有保温反射功能的金属材料制备,所述第一辐射屏蔽部和所述第二辐射屏蔽部均采用具有辐射屏蔽功能的材料制备。
与现有技术相比,本申请的具有保温及中子、伽马电离辐射防护的装置包括相连接的第一防护盒和第二防护盒,且第一防护盒和第二防护盒可围成放置管道的容纳空间,因此,其结构紧凑,拆装方便。同时,第一保温反射部和第二保温反射部均采用具有保温反射功能的金属材料制备,第一保温反射部沿轴向开设若干第一弧形槽,第二保温反射部沿轴向开设若干第二弧形槽,有利于提高该装置的保温性能,且第一辐射屏蔽部和第二辐射屏蔽部均采用具有辐射屏蔽功能的材料制备,第一辐射屏蔽部嵌入第二弧形槽内,第二辐射屏蔽部嵌入第二弧形槽内,能有利于提高该装置的屏蔽作用。
较佳的,所述第一保温反射部和第二保温反射部均采用不锈钢材料制备,故而,第一保温反射部和第二保温反射部的外表面光滑易清洁,从而具有不易积累粉尘且方便清洗的优势。
较佳的,所述第一辐射屏蔽部和所述第二辐射屏蔽部均选用铅橡胶、铅皮、含钨橡胶和含钨/铅高分子材料中的任意一种材料制备。
较佳的,所述第一保温反射部的外表面包覆一层第一柔性屏蔽层,所述第二保温反射部的外表面包覆一层第二柔性屏蔽层,所述第一柔性屏蔽层和所述第二柔性屏蔽层均包括采用含铅粉的硅橡胶制备的内层及采用硅橡胶制备的外层。
较佳的,所述第一防护盒和所述第二防护盒呈企口结构相连接,避免在接口处射线漏束。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中广核研究院有限公司;中国广核集团有限公司;中国广核电力股份有限公司,未经中广核研究院有限公司;中国广核集团有限公司;中国广核电力股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910857747.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种方便调整长度的吹膜机收卷辊
- 下一篇:极片打标方法和极片打标系统