[发明专利]氯化氢光催化氧化方法及装置

权利要求书

1.一种氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，向反应器中提供含氯化氢气体物流以及用于氧化所述含氯化氢气体物流的含氧气体物流，在光照条件下，氯化氢与氧气反应生成至少包含氯气和水的混合物，所述反应器内部被分隔为光照射区和无光区，所述光照射区能够被光辐射到，而无光区不能够被光辐射到，所述光照射区和无光区之间的气体能够流通。

2.根据权利要求1所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，使反应生成的水和氯气进行液化，而氯化氢和氧气则依然保持气体状态，将液氯与液态水从反应器排出。

3.根据权利要求1所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，使反应生成的水进行液化，而氯气、氯化氢和氧气则依然保持气体状态，将液态水从反应器排出。

4.根据权利要求1所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，采用n级反应器串联工艺流程，每级反应器均被分隔为光照射区和无光区，使第1级到第(n-1)级反应器内的水进行液化并从反应器排出，而氯气、氯化氢和氧气则依然保持气体状态，并依次从上一级反应器进入下一级反应器中，使第n级反应器内的氯气进行液化，而氯化氢和氧气则依然保持气体状态，所述n≥2。

5.根据权利要求1所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，采用n级反应器串联工艺流程，每级反应器均被分隔为光照射区和无光区，使第1级到第(n-1)级反应器内的水进行液化并从反应器排出，而氯气、氯化氢和氧气则依然保持气体状态，并依次从上一级反应器进入下一级反应器中，使第n级反应器内的氯气进行液化，而氯化氢和氧气则依然保持气体状态，所述n为3~5。

6.根据权利要求1~5任一项所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，所述光的波长为150nm~240nm。

7.根据权利要求6所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，所述光的波长为172nm~240nm。

8.根据权利要求1~5任一项所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，所述氯化氢和氧气的进料气体温度为0~50℃。

9.根据权利要求1~5任一项所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，所述氯化氢和氧气的进料气体温度为20~30℃。

10.根据权利要求1~5任一项所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，所述光照射区的温度范围在0℃~200℃之间。

11.根据权利要求1~5任一项所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，所述光照射区的温度范围在20℃~140℃之间。

12.根据权利要求1所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，进料气体直接进入光照射区。

13.一种氯化氢光催化氧化装置，其特征在于，包括反应器，所述反应器设置有气体进料口、液体出料口和气体出料口，所述反应器内部设置有光源，并通过透气而不透光的结构将反应器内部分隔为光照射区和无光区，所述光照射区能够被光辐射到，而无光区不能够被光辐射到，所述光照射区和无光区之间的气体能够流通。

14.根据权利要求13所述氯化氢光催化氧化装置，其特征在于，所述透气而不透光的结构为百叶窗结构；或双层板结构，双层板的内层板和外层板均开设有错开的孔；或由透气不透光的材质组成的结构。

15.根据权利要求13所述氯化氢光催化氧化装置，其特征在于，所述液体出料口设置于反应器底部，反应器底部设置有凹陷集液区，凹陷集液区直接与出料口连接。

16.根据权利要求1所述氯化氢光催化氧化方法，其特征在于，所述反应器为管状结构并含有弯折部，弯折部的一边设置有光源，构成光照射区，另一边无光源，构成无光区，所述弯折部的弯折角度为180度。