[发明专利]一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备

权利要求书

1. 一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其结构包括：旋转底座(1)、控制器(2)、大臂连接座(3)、一号力臂(4)、分离控制器(5)、微调小臂(6)、喷釉枪(7)，其特征在于： 所述旋转底座(1)顶部的壳体与控制器(2)的外壳通过螺栓相固定，所述大臂连接座(3)垂直安设在旋转底座(1)的顶部并与一号力臂(4)底部的轴体相连接，所述一号力臂(4)顶部的旋轴与分离控制器(5)的控制电机相连接，所述分离控制器(5)水平安设在微调小臂(6)的右侧，所述喷釉枪(7)通过螺栓安设在微调小臂(6)左侧套轴内； 所述喷釉枪(7)其内部结构包括：匀液喷枪(71)、微动摇臂(72)、釉液罐(73)、配重衔铁(74)、连接气腔(75)，所述匀液喷枪(71)水平固定在微动摇臂(72)的左侧，并且连接边缘通过密封处理，所述釉液罐(73)通过底部的外螺纹与微动摇臂(72)顶部的内螺纹相咬合，所述配重衔铁(74)通过螺栓紧扣在微动摇臂(72)底部的架体底部，所述连接气腔(75)固定在匀液喷枪(71)的右侧并且内部相通；

所述匀液喷枪(71)由扰流腔(711)、同步滑腔(712)、控制气阀(713)、滑动副腔(714)、主腔(715)组成，所述扰流腔(711)焊接固定在同步滑腔(712)的左侧二者形成一体结构，并且内部相通，所述控制气阀(713)紧密嵌套在同步滑腔(712)上部的通孔内，且边缘平齐，所述滑动副腔(714)水平嵌套在主腔(715)的左侧。

2.根据权利要求1所述的一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其特征在于：所述微动摇臂(72)由轴心套管(721)、固定壳体(722)、双向滑轴(723)、携流中管(724)、接连悬架(725)、防护管(726)组成，所述轴心套管(721)垂直贯穿固定壳体(722)的顶部，并且与釉液罐(73)相连接，所述固定壳体(722)的两侧轴心均与双向滑轴(723)相互嵌套固定，所述接连悬架(725)焊接安设在固定壳体(722)底部的中心，所述携流中管(724)横向贯穿双向滑轴(723)的中心与匀液喷枪(71)内部相通，所述防护管(726)设有两个且固定在固定壳体(722)与匀液喷枪(71)连接缝之间。

3.根据权利要求1所述的一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其特征在于：所述扰流腔(711)由压力阀板(7111)、限压弹环(7112)、套环(7113)、旋流套圈(7114)、引流管(7115)组成，所述压力阀板(7111)与套环(7113)相互嵌套，并且二者夹缝处设有限压弹环(7112)，所述，所述套环(7113)的内径与旋流套圈(7114)的外径大小一致，所述引流管(7115)垂直固定在旋流套圈(7114)的顶部。

4.根据权利要求1所述的一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其特征在于：所述同步滑腔(712)设有两部分，分别固定在滑动副腔(714)与主腔(715)的顶部。

5.根据权利要求1所述的一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其特征在于：所述釉液罐(73)设有联通阀，能够与外部的主液罐进行连接。