[发明专利]一种艺术井盖的设计及制造方法有效
| 申请号: | 201910852489.8 | 申请日: | 2019-09-10 |
| 公开(公告)号: | CN110674542B | 公开(公告)日: | 2023-10-27 |
| 发明(设计)人: | 张美玲 | 申请(专利权)人: | 武汉优品智造科技有限公司 |
| 主分类号: | G06F30/10 | 分类号: | G06F30/10 |
| 代理公司: | 武汉智汇为专利代理事务所(普通合伙) 42235 | 代理人: | 李恭渝 |
| 地址: | 430000 湖北省武汉市硚口区*** | 国省代码: | 湖北;42 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 艺术 井盖 设计 制造 方法 | ||
1.一种艺术井盖的设计及制造方法,其特征在于包括如下步骤:
a.素材组建,根据艺术井盖需突出的表现要素,构建素材线条,将素材线条整体布局形状调整至与井盖表面一致,裁剪去除与井盖形状不一致的部分制成素材图幅;
b.构建模型,所述素材图幅包括线条区域和平面区域,计算线条区域总面积与素材图幅总面积的比例,调整线条区域总面积占素材图幅总面积百分比值为10%-70%;
c.模拟场景,根据素材图幅上线条区域和平面区域的整体布局,填充实际使用场景的颜色至素材图幅,调整线条区域与平面区域的高度差值为2mm-6mm,整理定稿成设计模型;
d.制作模型,将设计模型数据导入模型加工设备系统,加工出设计模型原型,通过模型原型铸造出艺术井盖。
2.根据权利要求1所述的艺术井盖的设计及制造方法,其特征在于:所述构建素材线条通过PS、coreldraw抠图技术处理收集或计算机画板绘制。
3.根据权利要求1所述的艺术井盖的设计及制造方法,其特征在于:所述构建模型还包括调整过水孔或提拉孔与素材图幅的整体布局。
4.根据权利要求3所述的艺术井盖的设计及制造方法,其特征在于:所述过水孔为多个,所述多个过水孔与井盖加强筋不干涉。
5.根据权利要求1所述的艺术井盖的设计及制造方法,其特征在于:所述线条区域和平面区域为多个,所述多个线条区域或平面区域中任一个的面积进行调整。
6.根据权利要求1或5所述的艺术井盖的设计及制造方法,其特征在于:所述线条区域相对于平面区域为凸起或凹陷,所述凸起与相邻凸起之间的凹槽宽度大于2.5mm。
7.根据权利要求1所述的艺术井盖的设计及制造方法,其特征在于:所述模型加工设备包括3D打印设备,原材料为3D粘合材料。
8.根据权利要求1所述的艺术井盖的设计及制造方法,其特征在于:所述模型加工设备包括数控雕刻设备,原材料为金属材料。
9.根据权利要求8所述的艺术井盖的设计及制造方法,其特征在于:所述金属材料的表面设有用于雕刻线条区域的塑料层。
10.根据权利要求1所述的艺术井盖的设计及制造方法,其特征在于:所述艺术井盖外侧的井座外表面上设有井座图幅。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉优品智造科技有限公司,未经武汉优品智造科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910852489.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





