[发明专利]测量装置和测量方法在审

专利信息
申请号: 201910847273.2 申请日: 2019-09-09
公开(公告)号: CN110887820A 公开(公告)日: 2020-03-17
发明(设计)人: 山内丰彦;安彦修;山田秀直;松井永幸 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦;尹明花
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 测量 装置 测量方法
【权利要求书】:

1.一种测量装置,其特征在于,

具备:

荧光图像取得部,其取得包括对象物的荧光图像;

干涉图像取得部,其取得包括所述对象物的干涉图像;以及

运算部,其在对应于所述荧光图像中的像素值大于阈值的区域的所述干涉图像中的区域中,求得基于所述干涉图像的光学厚度的积分值。

2.根据权利要求1所述的测量装置,其特征在于,

所述运算部基于所述干涉图像制作光学厚度图像,并制作表示所述荧光图像中的像素值大于阈值的区域的掩模图像,并且在所述光学厚度图像中的所述掩模图像表示的区域中求得所述光学厚度的积分值。

3.根据权利要求1或2所述的测量装置,其特征在于,

所述干涉图像取得部使用非相干光来取得干涉图像。

4.根据权利要求1或2所述的测量装置,其特征在于,

所述干涉图像取得部及所述荧光图像取得部各自的光学系统的至少一部分是共通的。

5.一种测量方法,其特征在于,

具备:

荧光图像取得步骤,通过荧光图像取得部取得包括对象物的荧光图像;

干涉图像取得步骤,通过干涉图像取得部取得包括所述对象物的干涉图像;以及

运算步骤,在对应于所述荧光图像中的像素值大于阈值的区域的所述干涉图像中的区域中,求得基于所述干涉图像的光学厚度的积分值。

6.根据权利要求5所述的测量方法,其特征在于,

在所述运算步骤中,基于所述干涉图像制作光学厚度图像,并制作表示所述荧光图像中的像素值大于阈值的区域的掩模图像,并且在所述光学厚度图像中的所述掩模图像表示的区域中求得所述光学厚度的积分值。

7.根据权利要求5或6所述的测量方法,其特征在于,

在所述干涉图像取得步骤中,所述干涉图像取得部使用非相干光来取得干涉图像。

8.根据权利要求5或6所述的测量方法,其特征在于,

所述干涉图像取得部及所述荧光图像取得部各自的光学系统的至少一部分是共通的。

9.根据权利要求5或6所述的测量方法,其特征在于,

所述对象物是被荧光染色的细胞核,

在所述运算步骤中,求得所述光学厚度的积分值作为与所述细胞核的总量成比例的指标。

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