[发明专利]低剖面双极化超表面天线有效

专利信息
申请号: 201910844883.7 申请日: 2019-09-07
公开(公告)号: CN110534890B 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 杨德强;毛宁馨;汤悦;刘思豪 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38;H01Q1/48;H01Q1/50;H01Q1/52;H01Q15/24;H01Q15/00;H01Q21/00
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 敖欢
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 剖面 极化 表面 天线
【权利要求书】:

1.一种低剖面双极化超表面天线,其特征在于:由上至下依次包括紧密接触的超表面辐射贴片(1)、上层介质基板(2)、开有缝隙的金属接地板(3)、下层介质基板(4)和微带馈电结构(5);

所述超表面辐射贴片(1)由16块贴片组成一个正方形A,包括:中心的四块边长为wm的2×2排布的小正方形贴片B,八块长lm、宽wm的矩形贴片C分布在小正方形贴片B四周,四块边长为lm的大正方形贴片D分布在正方形A的四角,其中lm>wm;相邻贴片之间的间隙宽度为g;

金属接地板上的缝隙为4个矩形槽,矩形槽(6)在矩形贴片C的中点垂直于矩形贴片C的长度方向,并关于正方形A的中心对称分布,矩形槽长为ls、宽为ws,四个矩形槽与超表面辐射贴片边缘距离为lf

四个矩形槽与超表面辐射贴片边缘距离为lf满足关系式:lf=W/2-3g/2-wm-lm/2,其中w为正方形A的边长,g为相邻贴片之间的间隙,wm为小正方形贴片B的边长,lm为大正方形贴片D的边长;

所述微带馈电结构(5)包括四条Y形微带馈电线,四条Y形微带馈电线关于正方形A的中心对称分布,每条Y形微带馈电线分为两段:一段宽度为w2的直微带线和两段宽度为w1的微带臂,直微带线和微带臂的长度分别为l2和l1,两个微带臂之间的距离为s,所述微带臂以及直微带线都垂直于金属接地板上的缝隙,直微带线位于两段微带臂的中心。

2.根据权利要求1所述的低剖面双极化超表面天线,其特征在于:上层介质基板(2)是厚度为t1、边长是W的方形结构。

3.根据权利要求1所述的低剖面双极化超表面天线,其特征在于:下层介质基板(4)是厚度为t2、边长是W的方形结构。

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