[发明专利]一种透射电镜分析用微阵列超薄支持膜的制备方法

权利要求书

1.一种透射电镜分析用微阵列超薄支持膜的制备方法，其特征在于，包括：

在微孔阵列模板上涂覆一层亲水剂后，在所述微孔阵列模板上喷镀一层碳膜，使在所述微孔阵列模板上形成微筛碳支持膜；

将带有所述微筛碳支持膜的所述微孔阵列模板浸在水里，使所述微筛碳支持膜漂浮在水面上；

通过表面覆盖有有机膜的金属载网将所述微筛碳支持膜移出水面，使所述微筛碳支持膜在所述金属载网上晾干；

在所述微筛碳支持膜的表面喷涂一层薄碳膜后，用不损伤所述微筛碳支持膜的溶剂将覆盖在所述金属载网上的有机膜溶掉，即可得到微阵列超薄支持膜。

2.根据权利要求1所述的一种透射电镜分析用微阵列超薄支持膜的制备方法，其特征在于，所述金属载网是由铜箔、镍箔、金箔、钼箔、不锈钢箔中的一种或几种制备而成的直径为3mm的透射电镜实验用金属载网。

3.根据权利要求1所述的一种透射电镜分析用微阵列超薄支持膜的制备方法，其特征在于，所述有机膜包括方华膜或火棉胶膜。

4.根据权利要求3所述的一种透射电镜分析用微阵列超薄支持膜的制备方法，其特征在于，所述方华膜的制备方法，包括：

将方华粉溶解在氯仿溶液中，制备得到质量百分比浓度为0.2～0.4％的方华溶液；

将载玻片垂直插入所述方华溶液中并静置约半分钟，再匀速地将所述载玻片提出；

将吸附有所述方华溶液的所述载玻片置于空气中晾干，使所述载玻片的表面形成方华膜，再用刀片沿所述载玻片边沿把所述方华膜划开；

将晾干的载玻片垂直插入干净的水中，使所述方华膜从载玻片脱离，即可得到所述方华膜。

5.根据权利要求1所述的一种透射电镜分析用微阵列超薄支持膜的制备方法，其特征在于，所述不损伤所述微筛碳支持膜的溶剂为三氯甲烷。

6.根据权利要求1所述的一种透射电镜分析用微阵列超薄支持膜的制备方法，其特征在于，所述微筛碳支持膜的厚度为10-30nm。

7.根据权利要求1所述的一种透射电镜分析用微阵列超薄支持膜的制备方法，其特征在于，所述薄碳膜的厚度小于8nm。