[发明专利]一种小型光学级Ge窗口片加工工艺在审
| 申请号： | 201910842927.2 | 申请日： | 2019-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN110727040A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 胡卫东;王海波;杨利涛;李远航 | 申请（专利权）人： | 合肥嘉东光学股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/02 | 分类号： | G02B1/02 |
| 代理公司： | 34119 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 叶美琴 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 半成品 磨边加工 蓝膜 光洁度 倒边 方片 加工 光圈 大尺寸基材 变形现象 产品平面 厚度公差 小型光学 圆形基材 指标控制 窗口片 划片机 双面磨 保证 划片 外贴 平行 | ||
【权利要求书】：
1.一种小型光学级Ge窗口片加工工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1、将圆形基材双面磨加工至预定厚度T1，得到半成品A；
S2、将半成品A双面抛加工至预定厚度T2，得到半成品B；
S3、在半成品B外贴附蓝膜，得到半成品C；
S4、将半成品C使用划片机划片成多个方片D；
S5、将方片D磨边加工至预定直径D，双面倒边后除去表面蓝膜，得到产品。
2.根据权利要求1所述的小型光学级Ge窗口片加工工艺，其特征在于，在S1中，多件圆形基材同时双面磨加工，多件圆形基材双面磨加工后厚度公差在0.005mm以内。
3.根据权利要求1所述的小型光学级Ge窗口片加工工艺，其特征在于，在S1中，圆形基材尺寸为D25.4mm*1.0mm，预定厚度T1为0.63-0.64mm。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的小型光学级Ge窗口片加工工艺，其特征在于，在S2中，预定厚度T2为0.59-0.6mm。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的小型光学级Ge窗口片加工工艺，其特征在于，在S4中，方片D尺寸为4.5mm*4.5mm。
6.根据权利要求1-3中任一项所述的小型光学级Ge窗口片加工工艺，其特征在于，在S5中，预定直径D为3.4-3.5mm。
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