[发明专利]槽式湿法刻蚀机台及利用其进行湿法刻蚀的方法在审

专利信息
申请号: 201910842069.1 申请日: 2019-09-06
公开(公告)号: CN110620066A 公开(公告)日: 2019-12-27
发明(设计)人: 孙兴;王春伟 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/306
代理公司: 31211 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人: 张彦敏
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 湿法刻蚀 处理槽 槽式 均匀性 晶圆 刻蚀 圆面 半导体集成电路制造 湿法刻蚀机台 边缘位置 承载装置 速率差异 硬件结构 减小
【权利要求书】:

1.一种槽式湿法刻蚀机台,包括:处理槽,处理槽内包括承载装置和喷药液装置,承载装置用于承载多个晶圆,喷药液装置用于向晶圆上喷湿法刻蚀用药液,其中承载装置可旋转,并同时带动晶圆旋转。

2.根据权利要求1所述的槽式湿法刻蚀机台,其特征在于,承载装置包括:

至少两个横杆,并且横杆上沿其长度方向上包括多个卡槽,用于分隔固定晶圆;

第一挡板和第二挡板,所述至少两个横杆的一端均连接至第一挡板,所述至少两个横杆的另一端均连接至第二挡板,以使所述至少两个横杆、第一挡板和第二挡板构成一笼子状结构的承载装置。

3.根据权利要求2所述的槽式湿法刻蚀机台,其特征在于,横杆中的其中至少一横杆为可移动的横杆,当需要将晶圆置于承载装置内时,将可移动的横杆移动以将晶圆置于多个横杆的卡槽上以固定晶圆,然后将可移动的横杆固定组装回到承载装置上。

4.根据权利要求3所述的槽式湿法刻蚀机台,其特征在于,该可移动的横杆的两端均与承载装置的第一挡板和第二挡板可移动的连接,可移动的横杆的两端均包括一固定装置,对应的第一挡板和第二挡板上包括一固定装置,通过将第一挡板上的固定装置与可移动的横杆的一端上的固定装置固定连接,并将第二挡板上的固定装置与可移动的横杆的一端上的固定装置固定连接,以将可移动的横杆固定组装回到第一挡板和第二挡板上。

5.根据权利要求4所述的槽式湿法刻蚀机台,其特征在于,所述第一挡板和第二挡板上的固定装置为卡扣装置,可移动的横杆的两端上的固定装置为可与第一挡板和第二挡板上的卡扣装置在卡合后固定连接的卡扣装置。

6.根据权利要求5所述的槽式湿法刻蚀机台,其特征在于,第一挡板和第二挡板上的卡扣装置为一卡槽,可移动的横杆上的卡扣装置为一卡勾。

7.根据权利要求3所述的槽式湿法刻蚀机台,其特征在于,可移动的横杆的一端与第一挡板和第二挡板中的其中一者活动连接,该可移动的横杆的另一端与第一挡板和第二挡板中的另一者可移动的连接。

8.根据权利要求7所述的槽式湿法刻蚀机台,其特征在于,当需要将晶圆置于承载装置内时,将可移动的横杆与第一挡板和第二挡板中的一者可移动的连接的一端打开,使可移动的横杆沿可移动的横杆与第一挡板和第二挡板中的一者活动连接的一端旋转,将晶圆置于多个横杆的卡槽上以固定晶圆,然后将可移动的横杆与第一挡板和第二挡板中的一者可移动的连接的一端固定组装回到承载装置的第一挡板或第二挡板上。

9.根据权利要求8所述的槽式湿法刻蚀机台,其特征在于,通过设置一机械部件将第一挡板和第二挡板中的其中一者和可移动的横杆的第一端固定在一起,并使可移动的横杆的第二端以该机械部件为支点可向远离承载装置的方向旋转,以实现可移动的横杆的第一端与第一挡板和第二挡板中的其中一者活动连接;通过在第一挡板和第二挡板中的另一者上设置一固定装置,在可移动的横杆的第二端上设置一固定装置,将可移动的横杆的第二端上的固定装置与第一挡板和第二挡板中的另一者上的固定装置固定连接,以将可移动的横杆固定组装回到承载装置,以实现可移动的横杆的第二端与第一挡板和第二挡板中的另一者可移动的连接。

10.根据权利要求1所述的槽式湿法刻蚀机台,其特征在于,槽式湿法刻蚀机台还包括一驱动装置,驱动装置驱动承载装置沿晶圆的圆周方向旋转,使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转,进而使晶圆不同边缘位置都均等地通过处理槽内刻蚀速率不同的位置。

11.根据权利要求10所述的槽式湿法刻蚀机台,其特征在于,驱动装置通过驱动承载装置的横杆沿晶圆的圆周方向旋转,使承载装置沿晶圆的圆周方向旋转,进而使晶圆在处理槽内沿晶圆的圆周方向旋转。

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