[发明专利]投射光学系统和投影仪装置有效
申请号: | 201910840885.9 | 申请日: | 2015-10-30 |
公开(公告)号: | CN110632747B | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 松尾恭彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社日东 |
主分类号: | G02B17/08 | 分类号: | G02B17/08;G03B21/28;G03B21/14 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 投射 光学系统 投影仪 装置 | ||
1.一种投射光学系统,从缩小侧的第一像面向放大侧的第二像面进行投射,该投射光学系统具有:
第一光学系统,其包括多个透镜,将第一中间像在比该第一光学系统靠放大侧的位置处成像为第二中间像,该第一中间像是由从缩小侧入射的光在该第一光学系统的内部成像得到的;
第二光学系统,其包括第一反射面,该第一反射面位于比所述第二中间像靠放大侧的位置处,具有正的折射力;以及
玻璃块,其配置于所述第一光学系统与所述第一反射面之间,从所述第一光学系统到达所述第二中间像的光线通过该玻璃块,
其中,所述玻璃块包括:
靠所述第一光学系统侧的入射面;
靠所述第一反射面侧的出射面;以及
所述出射面与所述入射面之间的侧面,该侧面的至少一部分相对于所述第一光学系统与所述第一反射面之间的光轴倾斜,以使得所述出射面相对于所述入射面向所述光轴的与投影侧相反的一侧偏移,
其中,所述第二中间像以最周边像高接近所述玻璃块的方式向所述缩小侧倾斜。
2.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述侧面包括以与从所述第一反射面到达所述第二像面的投射光的下限光线大致平行的方式倾斜的面。
3.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述侧面包括对从所述第一光学系统到达所述第一反射面的光线进行反射的内部反射面。
4.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第一像面的像高Ih与所述第一反射面的直径MR满足以下的式子,
2.0<MR/Ih<4.5。
5.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第一像面的像高Ih与所述第一反射面的半径Mr满足以下的式子,
1.0<Mr/Ih<2.25。
6.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第一像面的发光面积Vs与所述第一反射面的有效面积Ms满足以下的式子,
1.0<Ms/Vs<6.0。
7.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第一像面的发光面积Vs与所述第二中间像的面积I2s满足以下的式子,
1.0<I2s/Vs<3.0。
8.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第一像面的发光面积Vs与所述第一中间像的面积I1s满足以下的式子,
0.5<I1s/Vs<2.0。
9.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述玻璃块的沿着所述第一光学系统与所述第一反射面之间的光轴的长度GBL同所述第一光学系统与所述第一反射面之间的沿着所述光轴的长度LML满足以下的式子,
0.1<GBL/LML<0.9。
10.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述玻璃块的沿着所述第一光学系统与所述第一反射面之间的光轴的长度GBL、所述第一光学系统与所述第一反射面之间的沿着所述光轴的长度LML以及所述玻璃块的折射率GBn满足以下的式子,
0.05<GBL/GBn/LML<0.7。
11.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述玻璃块的阿贝数GBv满足以下的式子,
30<GBv<100。
12.根据权利要求1所述的投射光学系统,其特征在于,
所述第一光学系统在隔着离所述第一中间像的广角侧最近的非球面透镜的广角侧包括折射力为正的透镜组G2r,所述透镜组G2r的焦距G2rF满足以下的式子,
0<G2rF<1000mm。
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