[发明专利]半导体结构的边界特征提取方法及其装置

权利要求书

1.一种半导体结构的边界特征提取方法，其特征在于，包括：

获取透射电子显微镜输出的所述半导体结构的剖面图像，所述剖面图像包括至少一个图形；以及

根据所述剖面图像识别所述图形的边界，

其中，识别所述图形的边界的步骤包括：根据所述剖面图像中各像素的灰度值获得二阶导数处理结果，并基于所述二阶导数处理结果获得所述边界上的多个边界点坐标。

2.根据权利要求1所述的边界特征提取方法，其特征在于，根据所述剖面图像中各像素的灰度值获得二阶导数处理结果的步骤包括：

根据所述剖面图像的每一行像素的灰度值获得多个单位长度与所述灰度值的函数；以及

对每个所述函数进行二阶导数处理，分别获得每个所述函数的二阶导数，并基于每个所述函数的二阶导数识别每一行像素的边界点。

3.根据权利要求2所述的边界特征提取方法，其特征在于，识别每一行像素的边界点的步骤包括：

获取预设参数；以及

判断每个所述二阶导数的多个数值是否大于预设参数。

4.根据权利要求2所述的边界特征提取方法，其特征在于，对每个所述函数进行二阶导数处理之前，根据所述剖面图像中各像素的灰度值获得二阶导数处理结果的步骤还包括对每个所述函数进行高频过滤处理。

5.根据权利要求4所述的边界特征提取方法，其特征在于，还包括根据进行高频过滤处理后的每个所述函数获得中间图像。

6.根据权利要求2所述的边界特征提取方法，其特征在于，还包括根据每个所述二阶导数获得边界图像。

7.一种半导体结构的边界特征提取装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于获取透射电子显微镜输出的所述半导体结构的剖面图像，所述剖面图像包括至少一个图形；以及

识别模块，用于根据所述剖面图像识别所述图形的边界，

其中，所述识别模块包括：处理单元，用于根据所述剖面图像中各像素的灰度值获得二阶导数处理结果；以及坐标转换单元，基于所述二阶导数处理结果获得所述边界上的多个边界点坐标。

8.根据权利要求7所述的边界特征提取装置，其特征在于，所述处理单元包括：

函数生成子单元，用于根据所述剖面图像的每一行像素的灰度值获得多个单位长度与所述灰度值的函数；以及

函数计算子单元，用于对每个所述函数进行二阶导数处理，分别获得每个所述函数的二阶导数，并基于每个所述函数的二阶导数识别每一行像素的边界点。

9.根据权利要求8所述的边界特征提取装置，其特征在于，所述处理单元还包括：

频率过滤子单元，用于对每个所述函数进行高频过滤处理。

10.根据权利要求9所述的边界特征提取装置，其特征在于，还包括中间图像转换模块，用于根据进行高频过滤处理后的每个所述函数获得中间图像。

11.根据权利要求8所述的边界特征提取装置，其特征在于，还包括边界图像转换模块，用于根据每个所述二阶导数获得边界图像。

12.根据权利要求7-11任一所述的边界特征提取边界特征提取，其特征在于，所述边界特征提取装置自动完成获取透射电子显微镜输出的所述半导体结构的剖面图像与根据所述剖面图像识别所述图形的边界的步骤。