[发明专利]耐脏污膜层、电子设备工件、显示屏、壳体以及电子设备

权利要求书

1.一种耐脏污膜层，其特征在于，包括亲油膜层和疏油膜层，所述疏油膜层将所述亲油膜层分隔成多个亲油膜层的组成单元，所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于纳米或微米级别。

2.根据权利要求1所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层的组成单元的尺寸处于10nm-50μm之间。

3.根据权利要求1或2所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层的组成单元的形状为规则或不规则形状。

4.根据权利要求1-3任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述疏油膜层为连续相或非连续相。

5.根据权利要求4所述的耐脏污膜层，其特征在于，当所述疏油膜层为非连续相时，所述疏油膜层的组成单元的尺寸均处于10nm-50μm之间。

6.根据权利要求1-5任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层的厚度为5-100nm；和/或，所述疏油膜层的厚度为5-100nm。

7.根据权利要求6所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层与所述疏油膜层的厚度差小于50nm。

8.根据权利要求1-7任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层的材料包括脂肪族硅氧烷类化合物I中的一种或多种，所述脂肪族硅氧烷类化合物I的结构通式为：

其中，a为0-17，b为0-10，c为0-10；

R1、R2、R3、R4均分别为甲基、乙基、丁基和芳烃支链中的任一种；所述芳烃支链为包含至少一个芳香烃的支链。

9.根据权利要求8所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述脂肪族硅氧烷类化合物I为甲基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷。

10.根据权利要求1-9任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述疏油膜层的材料包括：含全氟聚醚或全氟烷基的硅烷。

11.根据权利要求10所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述含全氟聚醚或全氟烷基的硅烷的分子量为190g/mol-8000g/mol。

12.根据权利要求1-11任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述亲油膜层的正己烷接触角＜40°；和/或，所述疏油膜层的正己烷接触角＞50°。

13.根据权利要求1-12任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述耐脏污膜层的水接触角＞104°。

14.根据权利要求1-13任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述耐脏污膜层的橡皮摩擦后水接触角＞45°。

15.根据权利要求1-14任一项所述的耐脏污膜层，其特征在于，所述耐脏污膜层的可见光透过率＞88％。

16.一种电子设备工件，其特征在于，包括基材，所述基材局部或者全部表面设置有权利要求1-15任一项所述的耐脏污膜层。

17.根据权利要求16所述的电子设备工件，其特征在于，所述基材的材料包括金属、陶瓷、玻璃和塑料中的一种或多种。

18.一种显示屏，其特征在于，包括显示模组和盖板，所述盖板覆盖在所述显示模组上，所述盖板朝向所述显示模组的一面与所述显示模组通过胶黏剂固定连接，所述盖板的背向所述显示模组的一面的局部或者全部表面上设置有权利要求1-15任一项所述的耐脏污膜层。