[发明专利]电解反应控制结构及其应用的电解装置

权利要求书

1.一种电解反应控制结构，其特征在于，包括：

液位计(1)，设于电解液中，用于测量电解液液面高度并在所述液面高度低于预设高度时发出补液信号，

控制结构，用于接收所述液位计(1)发出的补液信号并控制泵浦补给电解液；

遮蔽结构(2)，包括：

遮蔽单元(21)，设于阴极件的端部和待蚀刻件端部之间以减缓所述阴极件端部与所述待蚀刻件端部之间的电解液流动速度，所述待蚀刻件与阳极导线连接。

2.根据权利要求1所述的电解反应控制结构，其特征在于，所述遮蔽单元(21)包括：

第一遮蔽板(211)，位于所述阴极件顶端和所述待蚀刻件顶端之间，

第二遮蔽板(212)，位于所述阴极件底端和所述待蚀刻件底端之间。

3.根据权利要求2所述的电解反应控制结构，其特征在于，所述第一遮蔽板(211)为固定设置，所述第二遮蔽板(212)可沿竖直方向移动。

4.根据权利要求2或3所述的电解反应控制结构，其特征在于，所述第一遮蔽板(211)和所述第二遮蔽板(212)之间设有连接杆(213)，所述连接杆(213)、第一遮蔽板(211)和第二遮蔽板(212)之间形成允许电解液流过的开口(214)，所述开口(214)处设有允许阳离子单向流动的阳离子膜(215)或滤布。

5.根据权利要求2或3所述的电解反应控制结构，其特征在于，所述第一遮蔽板(211)顶部高于所述待蚀刻件与阳极导线相连处设置。

6.根据权利要求1-3任一项所述的电解反应控制结构，其特征在于，还包括浮动遮蔽单元(23)，所述浮动遮蔽单元(23)与一升降单元连接，以在所述升降单元的驱动下在所述阴极件和所述待蚀刻件之间升降运动调节阻挡位置。

7.根据权利要求1-3任一项所述的电解反应控制结构，其特征在于，所述液位计(1)置于装有电解液的槽体的边缘位置。

8.根据权利要求1-3任一项所述的电解反应控制结构，其特征在于，所述待蚀刻件为PCB板，所述阴极件为不锈钢板或纯铜板。

9.一种电解装置，其特征在于：包括上述权利要求1-8任一项所述的电解反应控制结构。