[发明专利]一种新结构二氧化硅沸石有效
申请号: | 201910825855.0 | 申请日: | 2019-09-03 |
公开(公告)号: | CN110683556B | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 龙英才;沈威 | 申请(专利权)人: | 复榆(张家港)新材料科技有限公司 |
主分类号: | C01B37/02 | 分类号: | C01B37/02 |
代理公司: | 北京翔石知识产权代理事务所(普通合伙) 11816 | 代理人: | 李勇 |
地址: | 215634 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 结构 二氧化硅 | ||
1.一种新结构二氧化硅沸石,其特征在于,其化学组成的二氧化硅与三氧化二铝的摩尔比大于2000、具有特征粉末XRD衍射谱,结构中的二种孔道开口孔径分别为和
所述沸石生成过程是将所合成制备的前驱体硅沸石-1在一定的气氛和一定的温度区间,经过一定时间焙烧处理,通过晶格大幅收缩生成的;
所述气氛为相对湿度10-40%的空气、氧气的混合气体,在500-800℃,焙烧1-4小时、使前躯体硅沸石-1的晶格大幅收缩。
2.根据权利要求1所述的新结构二氧化硅沸石,其特征在于,所述沸石的BET表面积大于350m2/g。
3.根据权利要求1所述的新结构二氧化硅沸石,其特征在于,所述沸石的微孔容积大于0.20ml/g。
4.根据权利要求1所述的新结构二氧化硅沸石,其特征在于,所述沸石的特征衍射线为d=10.71±0.1A(vs);9.62±0.1A(vs);5.75±0.05A(s);4.16±0.02A(m);3.70±0.01A(vs)。
5.根据权利要求1所述的新结构二氧化硅沸石,其特征在于,所述前驱体硅沸石-1是在R-SiO2 -H2 O反应物体系中水热反应合成。
6.根据权利要求5所述的新结构二氧化硅沸石,其特征在于,所述R包括C1-C4季铵碱、C3-C6烷基胺类,反应物体系的硅源是高纯气相白碳黑、正硅酸乙酯中的至少一种。
7.根据权利要求6所述的新结构二氧化硅沸石,其特征在于,所述反应物体系的摩尔组成范围是R/SiO2 =0.1-0.5,H2 O/SiO2 =10-40,水热反应温度是110-180℃。
8.根据权利要求5所述的新结构二氧化硅沸石,其特征在于,所述水热合成的温度是120-200℃,反应时间5-100h。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复榆(张家港)新材料科技有限公司,未经复榆(张家港)新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910825855.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。