[发明专利]平板簧片、微动装置及光刻机

说明书

本发明提供一种平板簧片、微动装置及光刻机，所述平板簧片包括簧片本体以及设置于所述簧片本体上的模态干涉部件，所述模态干涉部件用以提高或降低所述簧片本体的模态频率。由此，通过调整和改变平板簧片的模态频率，使平板簧片的模态频率与承片台的模态频率错开，避免共振产生，从而能够提高微动装置的控制效果，提高运动控制精度。

技术领域

本发明涉及光刻机技术领域，特别涉及一种平板簧片、微动装置及光刻 机。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底之目标部分上的机器。微动工件台 的承片台是光刻机工件台的最重要部件之一，用以承载硅片(作为一种衬底)。 在磁悬浮工件台中，微动工件台的驱动通过平面电机实现，且由于对光刻效率的 追求，对微动工件台提出了较高的运动加速度的需求。然而为提高微动工件台加 速度，根据牛顿定律F＝M*a可知，有两种方法：1)提高平面电机驱动出力； 2)减轻微动工件台自身重量。以当前行业技术条件下，提高平面电机驱动出力 的是十分困难的，其研制、制造成本大，研制周期长。所以，选择减轻微动工件 台质量是一种有效和经济的方法，其中承片台又占微动工件台的绝大部分的质 量。

由于光刻机分辨率和套刻精度不断提高，这就对运动系统有更高的动态性 能的需求，所以要求微动工件台的承片台具有较高的模态和刚度。因此，在减轻 承片台质量的同时又必须保证承片台的模态值指标及动态性能。一般的，承片台 可采用独立的减振隔振方式，如承片台通过隔振解耦单元与微动工作台的其它 部件连接。现有技术中，承片台的固有模态频率常与隔振解耦单元的模态频率相 近，易引起共振，从而影响微动工件台的定位精度。

发明内容

本发明的目的在于提供一种平板簧片、微动装置及光刻机，以解决现有承片 台易与隔振解耦单元共振的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种平板簧片，用于光刻机，其包括：

簧片本体；以及

模态干涉部件，设置于所述簧片本体上，用以提高或降低所述平板簧片的模 态频率。

可选的，在所述平板簧片中，所述模态干涉部件包括：

凹槽和/或凸起，所述凹槽用以降低所述簧片本体的模态频率，所述凸起用 以提高所述簧片本体的模态频率。

可选的，在所述平板簧片中，所述模态干涉部件根据所述簧片本体的一阶至 五阶的模态振形中的任意一种或多种进行配置。

可选的，在所述平板簧片中，所述平板簧片为三角形，所述模态干涉部件包 括：根据所述簧片本体的一阶和三阶的模态振形进行配置的凹槽。

可选的，在所述平板簧片中，所述平板簧片包括三个角部，在每个所述角部 中，所述凹槽均包括一组平行布置的第一凹槽和一组叉形布置的第二凹槽。

可选的，在所述平板簧片中，所述平板簧片还包括中部，所述中部设有多个 安装孔，用以与水平电机连接；所述角部用以与承片台连接。

可选的，所述平板簧片的一阶固有频率小于10Hz。

为解决上述技术问题，本发明还提供一种微动装置，其包括：

如上所述的平板簧片；

支架，与所述平板簧片的一端连接；

承片台，设置于所述支架上；以及

水平向电机，与所述平板簧片的另一端连接；

所述微动装置用于设置于一运动台的微动台中。

可选的，在所述微动装置中，所述承片台的一阶固有频率大于600Hz。