[发明专利]一种芯片减薄保护方法及其装置在审
申请号: | 201910816121.6 | 申请日: | 2019-08-30 |
公开(公告)号: | CN110690142A | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 张帅;张乐银;刘阳;包星晨;张伟 | 申请(专利权)人: | 华东光电集成器件研究所 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/306 |
代理公司: | 34113 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 | 代理人: | 杨晋弘 |
地址: | 233030 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 芯片减薄 保护装置 腐蚀液 减薄 浸入 芯片保护 芯片 | ||
本发明提供一种芯片减薄保护方法及其装置,它包括芯片减薄保护装置,在芯片减薄保护装置内放置腐蚀液,而后将需要减薄的芯片浸入腐蚀液中进行减薄。本发明具有芯片减薄步骤简单,操作方便、芯片减薄时对芯片保护效果好等优点。
技术领域:
本发明涉及电子制造技术领域,具体地说就是一种针对微小(超小)芯片的减薄保护方法及其装置。
背景技术:
在集成电路中,由于硅基材料及互联金属层存在电阻,在电流的作用下,芯片要产生发热现象。而在芯片工作的过程中,由于部分热量的产生,使得芯片背面产生内应力。芯片热量逐渐升高,基体层之间的热差异性加剧,这无疑加大了芯片的内应力,较大的内应力使芯片产生破裂。因此,在集成电路制备生产过程中,现有减薄工艺一般针对整个晶圆,其可通过磨削法,研磨法,化学机械抛光法,干式抛光法等,减薄技术已经成熟,但对于芯片级尺寸的半导体芯片,其减薄工艺相对不成熟。目前国内现有技术减薄过程中需对晶圆正面保护的方法采用蓝膜、涂光刻胶或专用热剥离膜,不但工艺加工复杂,需购置新的研磨机器,而且容易造成硅基内部损伤等问题。
发明内容:
本发明就是为了克服现有技术中的不足,提供一种芯片减薄保护方法及其装置。
本申请提供以下技术方案:
一种芯片减薄保护装置,其特征在于:它包括腐蚀槽,在腐蚀槽,设置一个腐蚀杆,在腐蚀杆一端设有与腐蚀槽对应配合的承片台。
在上述技术方案的基础上,还可以有以下进一步的技术方案:
在腐蚀杆另一端的端部设有一个圆台,所述的圆台为圆形与腐蚀杆同轴分布。
所述的腐蚀槽为圆柱形,在腐蚀槽下端设有径向伸出的扩大部,在腐蚀槽上端端部套接有限位台,在限位台与扩大部之间的腐蚀槽外壁上套接有滑板,在滑板一侧延伸出手柄。
一种芯片减薄保护方法,其特征在于:它包括以下步骤:
步骤1:将蜂蜡进行加热融化;
步骤2:融化后的蜂蜡涂抹在承片台上,而后将芯片正面向下放置在蜂蜡上;
步骤3:一边对刮刀进行边烘烤加热,一边用刮刀修整芯片四周蜂蜡,使得蜂蜡包裹芯片一圈的厚度端面,从而对芯片进行封边保护;
步骤4:封边结束待蜂蜡冷却凝固后,使用显微镜下检查,确保封边完整合格;
步骤5:按照腐蚀速率计算出腐蚀时间,将封边合格芯片放入腐蚀槽内,浸入配比好的腐蚀溶液HF:HNO3:CH3COOH (质量比为1:5:1)中,进行腐蚀减薄;
步骤6:腐蚀完成后取出承片台,并对其进行冲水清洗,而后利用甲苯溶液加热去除承片台上的蜂蜡,将芯片与承片台分离,分离后的芯片再使用丙酮冲洗干净,显微镜下观察腐蚀后表面状态;
步骤7:使用高度规对芯片进行检测减薄厚度。
发明优点:
本发明具有芯片减薄步骤简单,操作方便、通过利用蜂蜡对芯片四周保护进行湿法腐蚀减薄工艺,解决了无法使用湿法腐蚀技术对微小(超小)芯片背面硅膜减薄制备工艺的问题,且实施效果较好,降低碎片几率,实施成本较低,减薄控制精度高等优点。
附图说明:
图1是本发明中腐蚀槽的结构示意图;
图2是本发明中腐蚀杆的结构示意图;
图3是将芯片放置到承片台上的示意图。
具体实施方式:
如图1-3所示,一种芯片减薄保护装置,它包括腐蚀槽1,所述的腐蚀槽1为圆柱形,在腐蚀槽1下端设有径向伸出槽壁的圆形的扩大部1a。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造