[发明专利]一种芯片减薄保护方法及其装置在审

专利信息
申请号: 201910816121.6 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN110690142A 公开(公告)日: 2020-01-14
发明(设计)人: 张帅;张乐银;刘阳;包星晨;张伟 申请(专利权)人: 华东光电集成器件研究所
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/306
代理公司: 34113 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 代理人: 杨晋弘
地址: 233030 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 芯片减薄 保护装置 腐蚀液 减薄 浸入 芯片保护 芯片
【说明书】:

发明提供一种芯片减薄保护方法及其装置,它包括芯片减薄保护装置,在芯片减薄保护装置内放置腐蚀液,而后将需要减薄的芯片浸入腐蚀液中进行减薄。本发明具有芯片减薄步骤简单,操作方便、芯片减薄时对芯片保护效果好等优点。

技术领域:

本发明涉及电子制造技术领域,具体地说就是一种针对微小(超小)芯片的减薄保护方法及其装置。

背景技术:

在集成电路中,由于硅基材料及互联金属层存在电阻,在电流的作用下,芯片要产生发热现象。而在芯片工作的过程中,由于部分热量的产生,使得芯片背面产生内应力。芯片热量逐渐升高,基体层之间的热差异性加剧,这无疑加大了芯片的内应力,较大的内应力使芯片产生破裂。因此,在集成电路制备生产过程中,现有减薄工艺一般针对整个晶圆,其可通过磨削法,研磨法,化学机械抛光法,干式抛光法等,减薄技术已经成熟,但对于芯片级尺寸的半导体芯片,其减薄工艺相对不成熟。目前国内现有技术减薄过程中需对晶圆正面保护的方法采用蓝膜、涂光刻胶或专用热剥离膜,不但工艺加工复杂,需购置新的研磨机器,而且容易造成硅基内部损伤等问题。

发明内容:

本发明就是为了克服现有技术中的不足,提供一种芯片减薄保护方法及其装置。

本申请提供以下技术方案:

一种芯片减薄保护装置,其特征在于:它包括腐蚀槽,在腐蚀槽,设置一个腐蚀杆,在腐蚀杆一端设有与腐蚀槽对应配合的承片台。

在上述技术方案的基础上,还可以有以下进一步的技术方案:

在腐蚀杆另一端的端部设有一个圆台,所述的圆台为圆形与腐蚀杆同轴分布。

所述的腐蚀槽为圆柱形,在腐蚀槽下端设有径向伸出的扩大部,在腐蚀槽上端端部套接有限位台,在限位台与扩大部之间的腐蚀槽外壁上套接有滑板,在滑板一侧延伸出手柄。

一种芯片减薄保护方法,其特征在于:它包括以下步骤:

步骤1:将蜂蜡进行加热融化;

步骤2:融化后的蜂蜡涂抹在承片台上,而后将芯片正面向下放置在蜂蜡上;

步骤3:一边对刮刀进行边烘烤加热,一边用刮刀修整芯片四周蜂蜡,使得蜂蜡包裹芯片一圈的厚度端面,从而对芯片进行封边保护;

步骤4:封边结束待蜂蜡冷却凝固后,使用显微镜下检查,确保封边完整合格;

步骤5:按照腐蚀速率计算出腐蚀时间,将封边合格芯片放入腐蚀槽内,浸入配比好的腐蚀溶液HF:HNO3:CH3COOH (质量比为1:5:1)中,进行腐蚀减薄;

步骤6:腐蚀完成后取出承片台,并对其进行冲水清洗,而后利用甲苯溶液加热去除承片台上的蜂蜡,将芯片与承片台分离,分离后的芯片再使用丙酮冲洗干净,显微镜下观察腐蚀后表面状态;

步骤7:使用高度规对芯片进行检测减薄厚度。

发明优点:

本发明具有芯片减薄步骤简单,操作方便、通过利用蜂蜡对芯片四周保护进行湿法腐蚀减薄工艺,解决了无法使用湿法腐蚀技术对微小(超小)芯片背面硅膜减薄制备工艺的问题,且实施效果较好,降低碎片几率,实施成本较低,减薄控制精度高等优点。

附图说明:

图1是本发明中腐蚀槽的结构示意图;

图2是本发明中腐蚀杆的结构示意图;

图3是将芯片放置到承片台上的示意图。

具体实施方式:

如图1-3所示,一种芯片减薄保护装置,它包括腐蚀槽1,所述的腐蚀槽1为圆柱形,在腐蚀槽1下端设有径向伸出槽壁的圆形的扩大部1a。

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