[发明专利]一种直写式光刻机拼接方法

权利要求书

1.一种直写式光刻机拼接方法，其特征在于，包括：

在曝光前，设定曝光模式为N行M列DMD同时曝光模式，其中M、N均为自然数且M＞0，N＞1；

对每个DMD的中心位置进行标定，得到每个DMD相对于坐标原点的位置信息；

根据每个DMD的位置信息，将光刻版图划分为与N行M列DMD对应的N×M个高度的曝光区，且满足相邻行DMD对应的曝光区域之间的重叠区域高度为d纳米，d为自然数且d＞0；

利用各DMD进行曝光处理，输出对应的光刻版图曝光图形，并对所有输出的曝光图形进行直写式光刻数据的处理，得到灰度叠加数据；

将每个DMD与直写式精密平台进行匹配，直写式精密平台利用光学成像原理，进行灰度的拼接，将光刻版图呈现在曝光的基底上。

2.如权利要求1所述的直写式光刻机拼接方法，其特征在于，所述在N行DMD对应的曝光区域中，首行和尾行的DMD对应的曝光区域叠加d纳米光刻版图，中间行的DMD对应的曝光区域前后均需叠加d纳米光刻版图。

3.如权利要求1所述的直写式光刻机拼接方法，其特征在于，所述利用各DMD进行曝光处理，输出对应的光刻版图曝光图形，并对所有输出的曝光图形进行直写式光刻数据的处理，得到灰度叠加数据，包括：

利用各DMD进行曝光处理，得到曝光图形后，按照设定的灰度产生规则，对所有输出的曝光图形进行直写式光刻数据的处理，生成每行DMD所在曝光区域的重叠区域的灰度；

根据每行DMD所在曝光区域中重叠区域的灰度和光刻系统当前灰度，得到每行中DMD输出的曝光图形的灰度叠加数据。

4.如权利要求3所述的直写式光刻机拼接方法，其特征在于，所述中间行DMD所在曝光区域内存在两个重叠区域，对应的灰度分别为U1和U2，首行和尾行DMD所在曝光区域内存在一个重叠区域，对应的灰度分别为U1和U2，其中首行中每个DMD产生的曝光图形的灰度为U+U1，尾行中每个DMD产生的曝光图形的灰度为U+U2，中间行中每个DMD产生的曝光图形的灰度为U1+U+U2，U1+U2＝U，U为光刻系统当前灰度。

5.如权利要求3所述的直写式光刻机拼接方法，其特征在于，光刻系统当前灰度U为根据直写式光刻数据在DMD上进行能量叠加得到，光刻系统当前灰度U＝DMD使用行数/数据重组因子G，其中数据重组因子G为非0的自然数。

6.如权利要求3所述的直写式光刻机拼接方法，其特征在于，所述按照设定的灰度产生规则，生成每行DMD所在曝光区域的重叠区域的灰度，具体为：

按照灰度递减模式，生成每行DMD所在曝光区域的重叠区域的灰度。

7.如权利要求1-6任一所述的直写式光刻机拼接方法，其特征在于，所述每行DMD所在曝光区域的重叠区域的尺寸相同或不相同。

8.如权利要求5所述的直写式光刻机拼接方法，其特征在于，所述直写式光刻数据在DMD上进行能量叠加，得到是1阶或多阶图形数据。