[发明专利]版图修正方法有效

专利信息
申请号: 201910809085.0 申请日: 2019-08-29
公开(公告)号: CN110515267B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 刘洋;刘建忠;顾晓敏 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F1/72 分类号: G03F1/72;G03F1/36
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 版图 修正 方法
【权利要求书】:

1.一种版图修正方法,其特征在于,所述方法包括:

获取原始版图,所述原始版图中包括至少两个目标图案,所述目标图案中包括有第一图形和第二图形,第一图形为条形结构,所述第一图形和所述第二图形连接,所述目标图案的第一图形的一侧或两侧设置有另一目标图案的第二图形,并且,所述目标图案的第二图形与所述另一目标图案的第二图形间隔设置;将所述第一图形远离与其连接的所述第二图形一侧的边长的延伸方向定义为第一方向,将所述第一图形侧边的延伸方向定义为第二方向;

在所述目标图案第一图形靠近第二图形的侧边上添加至少一个修正图形,以增加所述目标图案中第一图形靠近所述第二图形部分的宽度尺寸;在所述目标图案第一图形靠近第二图形的侧边上添加至少一个修正图形的方法包括:以所述目标图案的第一图形和第二图形的连接处为起点,沿着所述第二方向,在所述目标图案的第一图形的侧边上依次添加修正图形一、修正图形二...修正图形n,直至所述修正图形n与所述另一目标图案的第二图形之间的距离小于第一阈值,第一阈值介于30nm-70nm之间;

其中,所述修正图形一、修正图形二......修正图形n在第一方向上的宽度尺寸逐渐递减,所述修正图形一在第二方向上的宽度尺寸大于等于所述目标图案的第二图形与所述另一目标图案的第二图形间距的二分之一。

2.如权利要求1所述的版图修正方法,其特征在于,所述第一图形与所述第二图形的连接处位于所述第二图形的边缘部位,或者,位于所述第二图形的非边缘部位。

3.如权利要求1所述的版图修正方法,其特征在于,所述第二图形在第一方向上的宽度尺寸与所述第一图形在第一方向上的宽度尺寸之比小于等于10,大于等于5。

4.如权利要求1所述的版图修正方法,其特征在于,所述图形一、图形二......图形n在第二方向上的宽度尺寸之和大于等于所述第二图形在第二方向上的宽度尺寸。

5.如权利要求1所述的版图修正方法,其特征在于,所述修正图形一和所述图形一在第一方向上的宽度尺寸小于等于所述第二图形在第一方向上的宽度尺寸的五分之一。

6.如权利要求1所述的版图修正方法,其特征在于,所述至少一个修正图形和所述至少一个图形为矩形。

7.如权利要求3所述的版图修正方法,其特征在于,所述第一图形在所述第一方向上的宽度尺寸介于所述原始版图中最小线宽的1-2倍之间。

8.如权利要求1所述的版图修正方法,其特征在于,所述至少一个修正图形不与另一目标图案重叠。

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