[发明专利]柔性显示基板、柔性显示面板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种柔性显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供支撑基底(201)；

在所述支撑基底(201)的表面形成柔性显示基板(110)，所述柔性显示基板(110)包括：显示区(101)和牺牲区(102)；所述显示区(101)与所述牺牲区(102)邻接设置，所述牺牲区(102)材料的粘度低于所述显示区(101)材料的粘度；

所述在所述支撑基底(201)的表面形成柔性显示基板(110)的步骤，包括：

在所述支撑基底(201)的表面形成所述牺牲区(102)，包括：

对应所述牺牲区(102)的位置，在所述支撑基底(201)的表面形成第一无机材料层(161)；

在所述第一无机材料层(161)的表面形成第二无机材料层(162)，所述第一无机材料层(161)的成膜面积大于所述第二无机材料层(162)的成膜面积；

在所述支撑基底(201)的表面形成所述显示区(101)；

在所述显示区(101)背离所述支撑基底(201)的一侧进行平坦化处理，以形成所述柔性显示基板(110)；

在所述柔性显示基板(110)的表面形成显示器件层(210)，以获得柔性显示面板(10)；

对应所述牺牲区(102)，刻蚀形成贯穿所述显示器件层(210)和所述柔性显示基板(110)的通孔(220)；

将所述柔性显示面板(10)与所述支撑基底(201)分离。

2.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制备方法，其特征在于，在对应所述牺牲区(102)，刻蚀形成贯穿所述显示器件层(210)和所述柔性显示基板(110)的通孔(220)的步骤中包括：

对应所述牺牲区(102)得出图形掩膜区域，所述图形掩膜区域的面积大于或等于所述牺牲区(102)的成膜面积；

按照所述图形掩膜区域，对所述柔性显示基板(110)进行干法刻蚀，以形成贯穿所述显示器件层(210)和所述柔性显示基板(110)的通孔(220)。

3.根据权利要求2所述的柔性显示面板的制备方法，其特征在于，按照所述图形掩膜区域，对所述柔性显示基板(110)进行干法刻蚀，以形成贯穿所述显示器件层(210)和所述柔性显示基板(110)的通孔(220)的步骤中：

干法刻蚀过程中，刻蚀边缘线与所述显示区(101)指向所述显示器件层(210)的层叠方向呈倾斜角度设置，所述倾斜角度大于0°小于或等于10°。

4.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制备方法，其特征在于，在所述第一无机材料层(161)的表面形成第二无机材料层(162)的步骤之前还包括：

在所述第一无机材料层(161)的表面形成第一夹层(163)，所述第一夹层(163)的成膜面积小于所述第二无机材料层(162)的成膜面积，所述第一夹层(163)被所述第一无机材料层(161)和所述第二无机材料层(162)包裹。

5.根据权利要求4所述的柔性显示面板的制备方法，其特征在于，采用化学气相沉积的方法，制备所述第一无机材料层(161)和所述第二无机材料层(162)，在相同的沉积速度下，所述第一无机材料层(161)的沉积时间大于所述第二无机材料层(162)的沉积时间。

6.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一无机材料层(161)包括氮化硅、氧化硅或者氮化硅与氧化硅的复合材料。

7.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制备方法，其特征在于，所述柔性显示基板(110)的厚度为8微米到10微米。

8.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示器件层(210)包括驱动层组(120)和显示层组(130)。

9.一种柔性显示面板，其特征在于，采用权利要求1-8中任一项所述的柔性显示面板的制备方法制备得到。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-8中任一项所述的柔性显示面板的制备方法制备得到的柔性显示面板(10)。