[发明专利]一种含锆膜层的褪除液及使用方法

说明书

本发明提供了一种含锆膜层的褪除液及使用方法，属于真空镀膜技术领域。该褪除液由氧化剂、耦合剂和缓蚀剂溶于水配制而成。氧化剂的质量体积浓度为200g/L‑500g/L；耦合剂的质量体积浓度为40g/L‑120g/L；缓蚀剂的质量体积浓度为20g/L‑100g/L；本发明还提供上述褪除液的使用方法，包括以下步骤：将基件完全浸入含锆膜层的褪除液；将基件清洗干燥。本发明提供的褪除液可褪除含锆膜层，成本低、简单有效且不伤害基件，具有广阔的应用前景。

技术领域

本发明属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种含锆膜层的褪除液及使用方法。

背景技术

锆及其合金具有极高的熔点、硬度、强度、耐腐蚀性等优良特性，在核工业和化学工业领域有着较为广泛的应用价值，越来越多的防腐蚀设备开始使用锆材作为原料。同时，为了拓宽金属材料的应用，在不锈钢上通过真空电镀镀上锆合金膜层，可以提高不锈钢材料的防腐蚀性能，增加色泽。真空电镀时，通不同反应气体，可以呈现不同色泽的含锆膜层，比如，氮化锆膜层是浅金色，碳氮化锆膜层是玫瑰金色，碳化锆膜层为黑色，因此这些膜层在五金和卫浴行业应用广泛。然而，有些基件在长时间使用后，由于腐蚀老化，表面镀的含锆膜层会受到破坏，工业生产出于节约成本的目的，需要将基件表面的原始膜层褪去后重新镀膜。另外，有时在镀膜时没有达到要求的质量标准，为减少损失，也需重新褪去基件原始的表面膜层。

也正由于锆合金优良的物理性质及耐腐蚀性，目前需要一种能在不损伤基件的情况下，能有效地褪除含锆膜层的溶液和方法。

在一些其他合金膜层的褪镀方法中，中国专利201410331058.4公开了一种用于烧结钕铁硼磁体表面镍钨磷电镀层褪镀的褪镀液及褪镀液的应用和褪镀工艺，将草酸溶液和磷酸溶液混合组成的褪镀液作为电解工作液应用于烧结钕铁硼磁体表面镍钨磷电镀层的阳极电解褪镀。在褪镀液中，将表面镀有镍钨磷电镀层的钕铁硼磁体作为阳极，以惰性电极为阴极，进行阳极电解褪镀。利用此褪镀液进行电解褪镀，利用传统电解工艺，无需附加操作，工艺简单成熟，安全环保，可以快速、有效将镍钨磷电镀层褪除干净。但是，使用电化学方法在褪除镀镍层过程中，低电流密度区难以褪除干净且褪镀速度慢，使得此方法受到一定限制。

中国专利201610822788.3公开了一种钯镍合金镀层褪镀的化学褪镀液及褪镀方法，其特征在于包括氧化剂、加速剂、络合剂、缓蚀剂。褪镀时依次包括碱洗、水洗、烘干、褪镀、水洗和烘干步骤。能有效降低对黄铜(或不锈钢)基体本身产生腐蚀的不良影响，同时褪除镀镍层过程中低电流密度区能褪除干净且褪镀速度相对较快的优点。使用了硫酸与硝酸二者的复合酸，找出了最佳配比，改善了只有硝酸对于钯镍镀层的溶解速率不大的现状，引入了硫酸，起到了加速溶解的作用，大大提高了工作效率。此技术在褪镀前加入碱洗步骤，提高了工艺的复杂性；相对于单纯的电化学方法，提高了成本。因此在成本与工艺方面仍有很大的提升空间。

中国专利201010150010.5公开了一种碳化钛和/或氮化钛膜层的褪除液及褪除方法。该褪除液为含有酸及加速剂、促进剂和缓蚀剂的水溶液，其中所述酸为有机酸或无机酸，该酸的浓度为90g/L-1000g/L；该加速剂为含氟离子的酸或者盐，该加速剂的浓度为70g/L-500g/L；该促进剂为醇胺类有机化合物，该促进剂的浓度15g/L-200g/L；该缓蚀剂为硫脲、硫脲的衍生物及尿素中的一种或者几种的组合，该缓蚀剂的浓度为2g/L-8g/L。所述接触时褪除液的温度为20℃-30℃，接触时间为0.5h-2h。该发明可简单有效的去除含钛膜层，不过该发明配方中较高的酸含量极大地提高了成本，同时褪除液的接触时间较长，不利于快速高效的去除含钛膜层。

由于目前缺少一种能高效且不伤害基件的去除含锆膜层的方法，因此，本发明提供一种针对含锆膜层的褪除液，以达到简单有效褪除含锆膜层的目的。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种可有效褪除含锆膜层且不伤害基件的褪除液及其使用方法，该方法简单有效，免去电化学操作，成本低，有很好的应用前景。