[发明专利]循环使用的抛光垫

说明书

提供了一种循环使用的抛光垫，所述循环使用的抛光垫包括上层垫和辅助垫。上层垫包括第一表面和与第一表面背对的第二表面。第一表面具有多个第一凹槽，第二表面具有多个第二凹槽。上层垫还包括连接第一凹槽和第二凹槽的连接体。辅助垫与上层垫的第二表面接触。每个第一凹槽的深度小于每个第二凹槽的深度。

本申请要求于2019年1月29日提交的第10-2019-0011257号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。

技术领域

发明构思的示例实施例涉及一种循环使用的抛光垫。

背景技术

在集成电路器件的制造中，化学机械抛光(CMP)工艺正被用于确保在诸如半导体晶圆、玻璃等的基底的表面上以及在基底上形成的各种膜的表面上所需的全局平坦化程度。在CMP工艺中使用的抛光垫以附着到抛光台上的状态与基底接触，以使基底的表面的不平整部分平坦化。抛光垫是高度影响基底的平整度的消耗部件。然而，抛光垫目前在已被使用一次之后被作为工业废料来处理。因此，为了降低成本和减少环境污染，期望循环使用/再利用使用过的抛光垫。

发明内容

发明构思的示例实施例旨在提供一种对使用过的抛光垫进行有效地循环使用的方法以及一种通过该方法循环使用的抛光垫。

根据示例实施例，提供了一种循环使用的抛光垫，该抛光垫包括：上层垫，包括具有多个第一凹槽的第一表面、具有多个第二凹槽并与第一表面背对的第二表面以及连接多个第一凹槽和多个第二凹槽的连接体；以及辅助垫，接触上层垫的第一表面。多个第一凹槽中的每个第一凹槽的深度从初始深度减小预定水平，并且小于多个第二凹槽中的每个第二凹槽的深度，并且辅助垫具有对应于预定水平的厚度。

根据示例实施例，提供了一种循环使用的抛光垫，该抛光垫包括：上层垫，包括具有多个第一凹槽的第一表面、具有多个第二凹槽并与第一表面背对的第二表面以及连接第一表面和第二表面的连接体；以及辅助垫，与上层垫的第一表面接触。多个第一凹槽中的每个第一凹槽的深度从初始深度减小预定水平，并且小于多个第二凹槽中的每个第二凹槽的深度，多个第一凹槽和多个第二凹槽具有弧形形状。辅助垫具有对应于预定水平的厚度。

根据示例实施例，提供了一种循环使用的抛光垫，该抛光垫包括：上层垫，包括具有多个第一凹槽的第一表面、具有多个第二凹槽并与第一表面背对的第二表面以及连接多个第一凹槽和多个第二凹槽的连接体；辅助垫，位于上层垫下方并与第一表面接触；以及下层垫，位于辅助垫下方。每个第一凹槽的深度从初始深度减小预定水平，并且小于每个第二凹槽的深度，辅助垫具有对应于预定水平的厚度。

附图说明

图1是示出根据发明构思的示例实施例的用于制造循环使用的抛光垫的磨损的抛光垫的一部分的剖视图。

图2是示出根据发明构思的示例实施例的循环使用的抛光垫的一部分的剖视图。

图3和图4是用于描述根据发明构思的示例实施例的使抛光垫循环使用的方法的剖视图。

图5是示出根据发明构思的示例实施例的用于制造循环使用的抛光垫的包括窗的磨损的抛光垫的一部分的剖视图。

图6A和图6B、图7A至图7C以及图8A至图8C是用于描述当循环使用图5中所示的抛光垫时形成辅助垫的方法的剖视图。

图9是示出根据发明构思的示例实施例的循环使用的抛光垫的一部分的剖视图。

图10和图11是用于描述根据发明构思的示例实施例的使抛光垫循环使用的方法的剖视图。

图12A和图12B、图13A至图13C以及图14A至图14C是用于描述当循环使用根据发明构思的示例实施例的包括窗的抛光垫时形成辅助垫的方法的剖视图。