[发明专利]防反射硬涂膜及其制备方法

权利要求书

1.一种防反射硬涂膜，包括：

基材；

硬涂层，其设置在所述基材上，并且所述硬涂层的水接触角为90°以下；

导电层，其设置在所述硬涂层上；以及

低折射率层，其设置在所述导电层上，

其中，所述硬涂层是包含环氧硅氧烷树脂、交联剂、热引发剂和光引发剂的硬涂层形成用组合物的固化层，所述环氧硅氧烷树脂的重均分子量为1000～20000，所述交联剂包含具有脂环族环氧基的化合物，所述热引发剂包含由以下化学式2表示的化合物，

所述光引发剂为二芳基碘鎓盐或三芳基锍盐，相对于100重量份的所述组合物，所述环氧硅氧烷树脂的含量为20～70重量份，相对于100重量份的所述组合物，所述交联剂的含量为5～20重量份，相对于100重量份的所述组合物，所述热引发剂的含量为0.01～15重量份，相对于100重量份的所述组合物，所述光引发剂的含量为0.01～10重量份，

所述导电层包含导电性金属氧化物或导电性金属氮化物，

所述低折射率层包含二氧化硅(SiO₂)，

[化学式2]

所述化学式2中，R³为氢，R⁴为氢，n为1～4，R⁵为可被碳原子数为1～4的烷基取代的碳原子数为7～15的芳烷基，R⁶为碳原子数为1～4的烷基，X为SbF₆，

其中，所述固化层是所述硬涂层形成用组合物经过光固化后热固化而形成。

2.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述具有脂环族环氧基的化合物由以下化学式1表示:

[化学式1]

所述化学式1中，R¹及R²各自独立地为碳原子数为1～5的直链或支链的烷基，X为直接键，羰基，碳酸酯基，醚基，硫醚基，酯基，酰胺基，碳原子数为1～18的直链或支链的亚烷基、烷叉基或亚烷氧基，碳原子数为1～6的环亚烷基或环烷叉基，或它们的连接基团。

3.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述导电性金属氧化物或导电性金属氮化物包含选自以下的一种以上：掺杂有选自磷(P)、铟(In)及锑(Sb)中的一种以上的铝(Al)氧化物；掺杂有选自磷、铟及锑中的一种以上的钛(Ti)氧化物；以及掺杂有选自磷及铟中的一种以上的锑氧化物。

4.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述防反射硬涂膜的表面电阻为10⁷～10¹³Ω/cm²。

5.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述导电层的折射率为1.6～2.6，所述低折射率层的折射率为1.35～1.45。

6.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述硬涂层的折射率为1.48～1.55。

7.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，将所述导电层及所述低折射率层定义为防反射层叠体时，所述防反射层叠体重复层叠2～6次。

8.根据权利要求1所述的防反射硬涂膜，其中，所述防反射硬涂膜进一步包括防污层，所述防污层设置在所述低折射率层上且包含金属氟化物。

9.根据权利要求8所述的防反射硬涂膜，其中，所述金属氟化物包含镁(Mg)或钡(Ba)。