[发明专利]基于韧致辐射和光核反应双功能靶的99Mo生产方法及设备

权利要求书

1.一种基于韧致辐射和光核反应双功能靶的⁹⁹Mo生产方法，其特征在于：采用电子加速器出射的高能电子束直接轰击一体化的韧致辐射和光核反应靶，所述一体化的韧致辐射和光核反应靶为¹⁰⁰Mo靶。

2.根据权利要求1所述的基于韧致辐射和光核反应双功能靶的⁹⁹Mo生产方法，其特征在于，通过下述光核反应生成⁹⁹Mo：

¹⁰⁰Mo(γ,n)⁹⁹Mo主反应(阈能Et＝9.1MeV) (1)

¹⁰⁰Mo(γ,p)^99mNb(T_1/2＝15s)→⁹⁹Mo(E_t＝16,5MeV) (2)

¹⁰⁰Mo(γ,p)^99mNb(T_1/2＝2.6m)→⁹⁹Mo(E_t＝16,9MeV) (3)

¹⁰⁰Mo(n,2n)⁹⁹Mo(E_t＝8.3MeV) (4)。

3.根据权利要求1所述的基于韧致辐射和光核反应双功能靶的⁹⁹Mo生产方法，其特征在于：所述一体化的韧致辐射和光核反应靶为圆柱形、半球形或半椭球形；所述一体化的韧致辐射和光核反应靶沿电子束流方向的厚度为1.5RL-2.5RL，其中RL为电子束在材料中的辐射长度；所述韧致辐射和光核反应双功能靶中¹⁰⁰Mo的含量大于99.9％。

4.一种基于韧致辐射和光核反应双功能靶的⁹⁹Mo生产设备，包括电子加速器(1)、靶盒(8)、设置在靶盒(8)内的靶板及冷却系统(5)；所述电子加速器(1)用于产生电子束，所述靶板用于经电子束轰击产生⁹⁹Mo，所述冷却系统(5)用于冷却靶板；

其特征在于：

所述靶板为韧致辐射和光核反应双功能靶板，所述韧致辐射和光核反应双功能靶板为¹⁰⁰Mo靶；

所述靶盒(8)上开有能够使电子束进入的开口，电子束进入靶盒(8)直接轰击韧致辐射和光核反应双功能靶，产生⁹⁹Mo。

5.根据权利要求4所述的基于韧致辐射和光核反应双功能靶的⁹⁹Mo生产设备，其特征在于：还包括设置在靶盒(8)内且与电子加速器(1)的电子束流出口连接的底盘(4)，所述底盘(4)的材料为钨或钽；所述底盘(4)上沿电子束传播方向开有通孔，所述通孔与电子束同心且直径大于电子束的直径；所述韧致辐射和光核反应双功能靶位于该通孔内。

6.根据权利要求5所述的基于韧致辐射和光核反应双功能靶的⁹⁹Mo生产设备，其特征在于：所述通孔直径比电子束的直径大1-2mm；所述韧致辐射和光核反应双功能靶为圆柱体、半球体或半椭球体，其外壁面紧贴通孔内壁。

7.根据权利要求6所述的基于韧致辐射和光核反应双功能靶的⁹⁹Mo生产设备，其特征在于：所述韧致辐射和光核反应双功能靶沿电子束流方向的厚度为1.5RL-2.5RL，其中RL为电子束在材料中的辐射长度；

所述韧致辐射和光核反应双功能靶与电子加速器(1)电子束出口之间的距离为1.5-2.5mm。

8.根据权利要求7所述的基于韧致辐射和光核反应双功能靶的⁹⁹Mo生产设备，其特征在于：当韧致辐射和光核反应双功能靶为半球体或半椭球体时，靠近电子加速器的一端为小端；

所述的电子加速器(1)发出的电子束能量大于20MeV；电子加速器(1)发出的电子束平均功率大于1kW。