[发明专利]一种三电解槽氯碱电解制备体系及氯碱制备方法

权利要求书

1.一种三电解槽氯碱电解制备体系，其特征在于：包括：电解槽A、电解槽B和电解槽C；

所述电解槽A由钠离子可逆脱嵌化合物阳极-氢氧化钠电解液-氧还原空气阴极构成；

所述电解槽B由阴离子可逆脱嵌化合物阳极-含钠离子溶液电解液-钠离子可逆脱嵌化合物阴极构成；

所述电解槽C由析氯阳极-盐酸电解液-阴离子可逆脱嵌化合物阴极构成；

所述电解槽A中的钠离子可逆脱嵌化合物阳极氧化脱钠后被用作电解槽B中的钠离子可逆脱嵌化合物阴极，其还原嵌钠后被重新用作电解槽A中的钠离子可逆脱嵌化合物阳极；电解槽B中的阴离子可逆脱嵌化合物阳极氧化嵌阴离子后被用作电解槽C中的阴离子可逆脱嵌化合物阴极，其还原后被重新用作电解槽B中的阴离子可逆脱嵌化合物阳极。

2.根据权利要求1所述的三电解槽氯碱电解制备体系，其特征在于：所述电解槽A或电解槽B中，钠离子可逆脱嵌化合物阳极或钠离子可逆脱嵌化合物阴极的制备方法为：将钠离子可逆脱嵌化合物、导电剂和粘结剂混合后压制成膜，干燥后将膜压制于集流体表面，或将钠离子可逆脱嵌化合物、导电剂和粘结剂混合后调制成浆料涂于集流体表面，制成钠离子可逆脱嵌化合物阳极或钠离子可逆脱嵌化合物阴极。

3.根据权利要求2所述的三电解槽氯碱电解制备体系，其特征在于：所述钠离子可逆脱嵌化合物为：基于Mn、Co、Fe、Cr、Ni或V的过渡金属的氧化物或其复合金属氧化物；或基于PO₄^3-，SO₄^2-或F^-离子的聚阴离子化合物或其复合阴离子化合物；或普鲁士蓝材料。

4.根据权利要求3所述的三电解槽氯碱电解制备体系，其特征在于：所述基于Mn、Co、Fe、Cr、Ni或V过渡金属的氧化物及或复合金属氧化物为V₂O₅、Na_xMnO₂、Na_xCoO₂、NaFeO₂、NaCrO₂、NaNiO₂、NaV_xO_y、NaNi_xMn_yO₂、Na[Ni_xFe_yMn_z]O₂、Na[Fe_xMn_y]O₂或Na_xTi_yMn_zO₂；

所述基于PO₄^3-、SO₄^2-、F^-离子的聚阴离子化合物或其复合阴离子化合物为MPO₄、Na₃V₂(PO₄)₃、Na₂MPO₄F、NaTi₂(PO₄)₃、Na₄M₃(PO₄)₂P₂O₇、Na₃V₂(PO₄)₂F₃、NaFePO₄、Na₄M₃(SO₄)₃P₂O₇、Na₂MnP₂O₇或Na₃(VO_x)₂(PO₄)₂F_3-2x；其中M为Fe、Co或Ni；

所述普鲁士蓝材料为KMFe(CN)₆或NaMFe(CN)₆；其中M为Fe、Mn、Zn、Co、Cu、Ni或Ti。