[发明专利]一种金属配合物、中间体、其制备方法及应用

权利要求书

1.一种金属配合物I：

其中，所述的金属配合物I为如下式I-1、I-2或I-A；

→为配位键；

R¹、R²和R³各自独立地为：氢、卤素、-CF₃、未取代的C₁～C₁₀的烷基、未取代的C₅～C₁₀的环烷基、或未取代的C₃～C₅的烯基；

X¹、X²和X³各自独立地为：卤素；

M¹和M²各自独立地为：Ni；

Y¹和Y²各自独立地为：R^3-1取代或未取代的C₁～C₁₀的烷基、R^3-2取代或未取代的C₆～C₁₄芳基；

所述的R^3-1和R^3-2各自独立地为：OR⁴、SR⁵、NR⁶R⁷、C₁～C₄烷基、卤素或苯基；

所述的R⁴、R⁵、R⁶和R⁷各自独立地为：C₁～C₁₀的烷基、C₅～C₁₀的环烷基-(CH₂)_m-、R^4-1取代或未取代的苯基；m＝1、2或3；

所述的R^4-1为：卤素、-CF₃、C₁～C₄烷氧基、或C₁～C₄烷基；

B¹和B²独立地为不存在、配体、或配位性溶剂；

且所述的金属配合物I、I-1、I-2和I-A是电荷平衡的。