[发明专利]一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置在审
| 申请号: | 201910760674.4 | 申请日: | 2019-08-16 |
| 公开(公告)号: | CN111799296A | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
| 发明(设计)人: | 侯华云;晁伟;潘布伟 | 申请(专利权)人: | 合肥维信诺科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司: | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 成丽杰 |
| 地址: | 230037 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 显示 面板 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
提供基板,所述基板包括相互交替的第一区域和第二区域;
在所述第一区域上形成第一膜层;
在所述第二区域上或所述第一膜层上形成第二膜层。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第二区域上形成所述第二膜层,具体包括:
在所述第二区域上涂布所述第二膜层的形成材质,形成所述第二膜层;
优选地,在所述第二区域及所述第一膜层上涂布所述形成材质,所述形成材质在所述第一膜层上方的位置收缩,并在所述第二区域上形成所述第二膜层。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在形成所述第二膜层之后,还包括:
对所述第二膜层顶部表面进行平坦化处理。
4.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述第一膜层的膜层厚度与所述第二膜层的膜层厚度相同;
优选地,所述第二膜层的膜层厚度为6至8微米。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第一膜层上形成第二膜层,具体包括:
在所述第一膜层上形成初始第二膜层,其中,所述初始第二膜层覆盖所述第二区域;
剥离所述基板;
去除位于所述第二区域上方的初始第二膜层,形成所述第二膜层;
优选地,所述去除位于所述第二区域上方的初始第二膜层,形成所述第二膜层,具体包括:向位于所述第二区域上方的区域加入用于溶解所述初始第二膜层的溶剂,形成所述第二膜层。
6.根据权利要求1至5任一项所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述第一膜层的材质为柔性材质。
7.根据权利要求1至5任一项所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述第二膜层的材质为柔性材质;优选地,所述第二膜层为PI膜。
8.一种显示面板,其特征在于,采用权利要求1至7任一项所述的显示面板的制备方法制成。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述第二区域为所述显示面板的拍照设备安装区,还包括位于所述第二膜层上的显示器件层,所述显示器件层正对所述拍照设备安装区的区域的制作材料为透明材料。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求8或9所述的显示面板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





