[发明专利]一种基于表面等离激元格点共振的光学器件有效
| 申请号： | 201910749239.1 | 申请日： | 2019-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN110441843B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 李光元;杨秀华;鲁远甫;焦国华;吕建成 | 申请（专利权）人： | 深圳先进技术研究院 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00 |
| 代理公司： | 深圳智趣知识产权代理事务所(普通合伙) 44486 | 代理人： | 崔艳峥 |
| 地址： | 518055 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 表面 离激元格点 共振 光学 器件 | ||
1.一种基于表面等离激元格点共振的光学器件，包括基底介质板(1)以及沉积于所述基底介质板(1)上的纳米结构单元阵列，坐标轴设定为x方向与y方向垂直，且两者平行于所述基底介质板(1)，z方向垂直于所述基底介质板(1)，其特征在于，
所述纳米结构单元由从下往上依次设置的底层金属柱(2)、中层介质柱(3)和顶层金属柱(4)紧贴叠加构成；
所述底层金属柱(2)、所述中层介质柱(3)和所述顶层金属柱(4)平行于所述基底介质板(1)的截面形状相同；
所述底层金属柱(2)、所述中层介质柱(3)和所述顶层金属柱(4)的长度和宽度均相等；
所述底层金属柱(2)和所述顶层金属柱(3)的材料相同；
所述纳米结构单元沿x方向与y方向以相同的周期均匀排布在所述基底介质板(1)上，介质层(5)覆盖于所述纳米结构阵列上；
所述中层介质柱(3)厚度变化范围为100nm～300nm。
2.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述介质层(5)的折射率不同于所述基底介质板(1)的折射率。
3.根据权利要求2所述的光学器件，其特征在于：所述介质层(5)的折射率为1.00-1.52。
4.根据权利要求2所述的光学器件，其特征在于：所述介质层(5)为水、溶液或者空气。
5.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述基底介质板(1)的材料为硅、二氧化硅或者玻璃。
6.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述底层金属柱(2)和所述顶层金属柱(4)的材料为金、银或者铝，所述中层介质柱(3)的材料为二氧化硅。
7.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述底层金属柱(2)、所述中层介质柱(3)和所述顶层金属柱(4)平行于所述基底介质板(1)的截面形状为正方形。
8.根据权利要求7所述的光学器件，其特征在于：所述底层金属柱(2)和所述顶层金属柱(4)厚度变化范围为100nm～250nm，宽度和长度变化范围为60nm～100nm。
9.根据权利要求7或8所述的光学器件，其特征在于：所述中层介质柱(3)宽度和长度变化范围为60nm～100nm。
10.根据权利要求1所述的光学器件，其特征在于：所述周期的变化范围为300nm～600nm。
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