[发明专利]光学检测系统及方法

说明书

本发明涉及光学技术领域，公开一种光学检测系统及方法，以快速完成物体表面的缺陷检测。本发明系统包括：多光谱光源；位于所述多光谱光源与待测物体之间的偏转装置，用于将来自所述多光谱光源出射的不同波长的光束分别偏转到与波长大小相对应的方向上，并将偏转后不同波长的光束出射至所述待测物体；数据处理装置，用于接收由所述待测物体表面反射的光束，并将该反射光谱与对应标准件反射的参考标定光谱进行光谱差异对比，确定发生差异的波长，进而根据发生差异的波长计算所述待测物体表面缺陷所对应的空间坐标。

技术领域

本发明涉及光学技术领域，尤其涉及一种光学检测系统及方法。

背景技术

随着现代工业技术的发展，对高精度加工技术的要求越来越高，与此同时，表面检测也成为工业发展必不可少的一环，在一定程度上反映了一个国家的工业发展水平。

表面检测通常是利用材料表面结构异常或缺陷或异物引起的热、声、光、电、磁等反应的变化，以物理或化学方法为手段，借助现代化技术和设备，对被测件表面缺陷(或异物)的类型、性质、数量、形状、位置、尺寸、分布及其变化进行检测。

传统光学表面缺陷检测，多采用散射能量分析法、傅里叶频谱分析法、双光束干涉法、滤波成像法等，这些方法都具有各自的局限性。例如散射能量分析法系统复杂，检测速度慢，并且无法确定缺陷的具体位置；频谱分析法受缺陷深层构造影响较大,不能够反映出缺陷表层的面积大小；双光束干涉法干涉条纹易漂移，且不适应多种缺陷检测；滤波成像法针对光束空间频谱中高频成分或低频成分成像，受噪声干扰大。

发明内容

本发明目的在于公开一种光学检测系统及方法，以快速完成物体表面的缺陷检测。

为达上述目的，本发明公开一种光学检测系统，包括：

多光谱光源；

位于所述多光谱光源与待测物体之间的偏转装置，用于将来自所述多光谱光源出射的不同波长的光束分别偏转到与波长大小相对应的方向上，并将偏转后不同波长的光束出射至所述待测物体；

数据处理装置，用于接收由所述待测物体表面反射的光束，并将该反射光谱与对应标准件反射的参考标定光谱进行光谱差异对比，确定发生差异的波长，进而根据发生差异的波长计算所述待测物体表面缺陷所对应的空间坐标。

为达上述目的，本发明公开一种相对应的光学检测方法，包括：

设置多光谱光源，并在所述多光谱光源与待测物体之间设置偏转装置；

由所述光谱偏转装置将来自所述多光谱光源出射的不同波长的光束分别偏转到与波长大小相对应的方向上，并将偏转后不同波长的光束出射至所述待测物体；

接收由所述待测物体表面反射的光束，并将该反射光谱与对应标准件反射的参考标定光谱进行光谱差异对比，确定发生差异的波长，进而根据发生差异的波长计算所述待测物体表面缺陷所对应的空间坐标。

本发明具有以下有益效果：

能快速且精准地完成物体表面的缺陷检测，部署简单、操作便捷、实用性非常强。

下面将参照附图，对本发明作进一步详细的说明。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1是本发明实施例公开的一种光学检测系统示意图；

图2是本发明实施例公开的一种光学检测系统示意图；

图3是本发明实施例公开的一种光学检测系统示意图；

图4是本发明实施例公开的偏振光栅对应不同波长产生不同偏转角的示意图；