[发明专利]吡咯烷酮除草剂

权利要求书

1.一种式1的化合物或其盐，

其中

Q¹为苯环或萘环环系，每个环或环系任选地被至多5个取代基取代，所述取代基独立地选自R⁷；或5元至6元杂环环或8元至10元杂芳族双环环系，每个环或环系包含选自碳原子和1至4个杂原子的环成员，所述杂原子独立地选自至多2个O、至多2个S、和至多4个N原子，其中至多3个碳环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且所述硫原子环成员独立地选自S(＝O)_u(＝NR⁸)_v，每个环或环系任选地被至多5个取代基取代，所述取代基独立地选自碳原子环成员上的R⁷，并且选自氮原子环成员上的R⁹；

Q²为苯环环系，每个环系任选地被至多5个取代基取代，所述取代基独立地选自R¹⁰；

Y¹为O、S或NR¹²；且Y²为O；

R¹为羟基、C₁-C₆烷基或C₁-C₆卤代烷基；

R²和R³各自独立地为H或C₁-C₄烷基；

R⁴和R⁵各自独立地为H、卤素或C₁-C₄烷基；

R⁶为H、羟基、C₁-C₆烷基、C₁-C₆卤代烷基或C₃-C₆炔基；

每个R⁷和R¹⁰独立地为卤素、氰基、硝基、C₁-C₈烷基、C₁-C₈卤代烷基、C₁-C₈烷基磺酰基或-SF₅；

每个R⁸独立地为H、氰基、C₂-C₃烷基羰基或C₂-C₃卤代烷基羰基；

R⁹为氰基、C₁-C₃烷基、C₂-C₃烯基、C₂-C₃炔基、C₃-C₆环烷基、C₂-C₃烷氧基烷基、C₁-C₃烷氧基、C₂-C₃烷基羰基、C₂-C₃烷氧基羰基、C₂-C₃烷基氨基烷基或C₃-C₄二烷基氨基烷基；

每个R¹²独立地为H；

并且

在每个S(＝O)_u(＝NR⁸)_v的实例中，每个u和v独立地为0、1或2，前提条件是u和v之和为0、1或2；

前提条件是

(a)式1的化合物不是N–1H–苯并三唑-1-基-2-氧代基-4-苯基-3-吡咯烷甲酰胺；

(b)当Q¹包含与式1的其余部分直接键合的3-呋喃环或3-吡啶环时，则所述环被至少一个选自R⁷的取代基取代；

(c)当Q¹为未取代的苯环，并且Q²包含与式1的其余部分直接键合的苯环时，则所述Q²环被R¹⁰取代，所述R¹⁰不是任选地在2–位取代的苯氧基或F、在4-位取代的氰基或–CF₃，R⁵为H或卤素；

(d)当Q¹为未取代的苯基，并且Q²包含与式1的其余部分直接键合的吡啶环时，则所述吡啶环被至少一个选自R¹⁰的取代基取代；

(e)当Q¹为被4-苯基或4-苯氧基取代的苯环时，所述Q¹环还被R⁷取代基取代；

(f)当Q¹包含与式1的其余部分直接键合的苯环，并且相对于与式1的其余部分的键，所述环在两个邻位被R⁷取代时，则所述环为还独立地在至少一个另外的位置上被R⁷取代；

(g)当Q¹是未取代的1-萘基时，则Q²不是2,3-二-氟苯基或2-CF₃-苯基；

(h)Q²不是任选地被取代的1H-吡唑-5-基；并且

(i)当Q²包含与式1的其余部分直接键合的1H-吡唑-3-基环时，所述环在1-位被R¹¹取代。