[发明专利]一种掩膜版和像素结构

说明书

本申请公开了一种掩膜版和像素结构，所述掩膜版包括用于在显示面板的像素开口中制作子像素的掩膜开口；所述掩膜开口的面积大于对应的像素开口的面积；所述像素开口包括至少一条内凹的曲线边；所述掩膜开口包括至少一条掩膜边，且所述至少一条掩膜边与至少一条曲线边一一对应，每一条掩膜边的曲率小于其对应的曲线边的曲率。本申请的掩膜版的掩膜开口相对于对应的像素开口非等比例扩大，使得掩膜版的掩膜开口的不同位置的尺寸可在工艺余量内做调整，且避免了将掩膜开口的掩膜边做成内凹的曲线边，减小了掩膜版的掩膜开口的制备工艺难度，使得制备具有上述曲线边的像素结构的掩膜版可以实现量产。

技术领域

本申请涉及显示面板制备领域，尤其涉及一种掩膜版和像素结构。

背景技术

目前OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示屏采用真空蒸镀技术制备有机发光层。在器件制备过程中，有机材料通过高温蒸镀淀积在位于蒸发源上方的基板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，需要使用高精度金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)，FMM上留有预先设计好的开口，有机材料通过该开口沉积到背板上面，形成预设图形的像素。

随着OLED显示屏的分辨率和亮度要求越来越高，高开口率和高像素密度的像素结构设计越来越复杂，像素的形状多种多样，对于不规则的像素形状设计，使得对应的FMM的制作越来越困难，且制备得到的FMM在拉网过程中易出现褶皱，使得蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置容易出现偏差，形成的像素容易混色，影响产品的性能。因此，像素结构的设计限制了FMM的开口设计，也影响了FMM的量产化。

发明内容

本申请实施例提供一种掩膜版和像素结构，以解决掩膜版制作难度大及易褶皱的问题。

本申请实施例提供了一种掩膜版，包括用于在显示面板的像素开口中制作子像素的掩膜开口；所述掩膜开口的面积大于对应的像素开口的面积；所述像素开口包括至少一条内凹的曲线边；所述掩膜开口包括至少一条掩膜边，且所述至少一条掩膜边与至少一条曲线边一一对应，每一条掩膜边的曲率小于其对应的曲线边的曲率。

可选的，所述掩膜边呈直线形。

可选的，所述掩膜边呈曲线形。

可选的，所述掩膜边呈圆弧形，所述圆弧的圆心角大于0°，且小于或等于30°。

可选的，所述掩膜开口的形状为轴对称图形。

可选的，所述掩膜开口的形状包括正多边形或具有倒角的正多边形。

可选的，所述像素开口的形状为轴对称的八边形，所述像素开口包括四条所述曲线边，任意相邻的两条曲线边通过第一直线边连接，且所述任意相邻的两条曲线边与另外相邻的两条曲线边相对设置；

所述掩膜开口的形状为轴对称的八边形，所述掩膜开口包括四条所述掩膜边，四条所述掩膜边与四条所述曲线边一一对应，任意相邻的两条掩膜边通过第二直线边连接。

可选的，四条所述曲线边的长度和曲率相同；四条所述掩膜边的长度和曲率相同。

可选的，所述第一直线边与所述第二直线边平行，且所述第一直线边的长度小于所述第二直线边的长度。

本申请实施例还提供一种像素结构，所述像素结构包括形成在像素开口中的子像素，且所述子像素采用上述的掩膜版制作获得。