[发明专利]用于清洗玻璃盖板的清洗剂及清洗方法在审
申请号: | 201910734003.0 | 申请日: | 2019-08-09 |
公开(公告)号: | CN110616118A | 公开(公告)日: | 2019-12-27 |
发明(设计)人: | 李勇聪;唐光安;梁凤连;周欢 | 申请(专利权)人: | 深圳市信濠光电科技股份有限公司 |
主分类号: | C11D1/72 | 分类号: | C11D1/72;C11D3/04;C11D3/08;C11D3/20;C11D3/37;C11D3/60;B08B3/08 |
代理公司: | 44380 深圳市深软翰琪知识产权代理有限公司 | 代理人: | 吴雅丽 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区福*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗剂 玻璃盖板 清洗 质量百分比 洁净能力 聚乙二醇 偏硅酸钠 氢氧化钠 清洗技术 清洗效果 溶剂 | ||
本发明公开了一种用于清洗玻璃盖板的清洗剂及清洗方法,涉及玻璃盖板清洗技术,其中,所述清洗剂按照质量百分比,包括:氢氧化钠15%‑25%、偏硅酸钠10%‑15%、聚乙二醇5%‑10%、溶剂50%‑70%。本发明提供的清洗剂洁净能力强,清洗效果良好。
技术领域
本发明涉及玻璃盖板清洗技术,尤其涉及一种用于清洗玻璃盖板的清洗剂 及清洗方法。
背景技术
玻璃盖板的制作通常包括多道工序,且在每道工序完成后,为确保后续工 序的加工效果,都会对玻璃进行清洗。
现有清洗技术中,多利用超声波清洗机对玻璃盖板进行清洗,并在清洗过 程中会用及相应的清洗剂。然而现有的清洗剂及清洗方法在清洗经丝印工序后 的玻璃盖板时,清洗效果不佳。
发明内容
本发明针对现有的在清洗丝印工序后的玻璃盖板效果差的问题,提供了一 种用于清洗玻璃盖板的清洗剂及清洗方法。
本发明就上述技术问题而提出的技术方案如下:
一方面,本发明提供了一种用于清洗玻璃盖板的清洗剂,其特征在于,按 照质量百分比,包括:
氢氧化钠15%-25%、偏硅酸钠10%-15%、聚乙二醇5%-10%、溶剂50%-70%。
优选的,所述清洗剂还包括表面活性剂,且所述表面活性剂的质量百分比 为0.5%-1%。
优选的,所述溶剂至少包括以下中的一种或多种:乙醇、异丙醇及纯水。
另一方面,本发明还提供一种用于清洗玻璃盖板的清洗方法,所述清洗方 法应用如上所述用于清洗玻璃盖板的清洗剂,包括:
向第一类清洗槽的各清洗槽中加入预设毫升的所述清洗剂,并在温度为第 一预设温度的各个清洗槽中对依次玻璃盖板进行超声波清洗;
在所述第一类清洗槽的各清洗槽中依次对玻璃盖板进行超声波清洗完毕 后,将清洗后的玻璃盖板置于温度为所述第一预设温度的第二类清洗槽中进行 超声波漂洗;所述第一类清洗槽的各个清洗槽对玻璃盖板的超声波清洗时长为 第一预设时长;
在所述第二类清洗槽中对玻璃盖板进行超声波漂洗完毕后,将清洗后的玻 璃盖板置于第三类清洗槽中对玻璃盖板进行喷淋漂洗;所述第二类清洗槽对玻 璃盖板的超声波漂洗时长为第二预设时长;
在所述第三类清洗槽中对玻璃盖板进行喷淋漂洗完毕后,将清洗后的玻璃 盖板置于温度为第二预设温度的第四类清洗槽中进行超声波漂洗;所述第三类 清洗槽对玻璃盖板的喷淋漂洗时长为第三预设时长;
在所述第四类清洗槽中对玻璃盖板进行超声波漂洗完毕后,将清洗后的玻 璃盖板置于温度为第三预设温度的第五类清洗槽中进行脱水处理;所述第四类 清洗槽的各个清洗槽对玻璃盖板的超声波漂洗时长为所述第一预设时长。
优选的,在所述将清洗后的玻璃盖板置于温度为第三预设温度的第五类清 洗槽中进行脱水处理之后,所述方法还包括:
将玻璃盖板置于温度为第四预设温度的烘干槽中进行烘干处理。
优选的,所述第一预设温度为60±5摄氏度;所述第二预设温度为70±5 摄氏度;所述第三预设温度为80±5摄氏度;所述第四预设温度为120摄氏度。
优选的,所述第一预设时长为150秒,所述第二预设时长为80秒,所述第 三预设时长为30秒。
优选的,所述第一类清洗槽包括三个超声波清洗槽,在利用所述第一类清 洗槽对玻璃盖板进行超声波清洗时,依次在所述三个超声波清洗槽中各进行一 次超声波清洗;
所述第二类清洗槽包括一个超声波漂洗清洗槽。
所述第三类清洗槽包括一个喷淋漂洗清洗槽;
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