[发明专利]一种光谱差异校正方法及系统有效
| 申请号: | 201910728930.1 | 申请日: | 2019-08-08 |
| 公开(公告)号: | CN112432917B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
| 发明(设计)人: | 朱志强;胡振环;冯恩波;任洁;刘建朋 | 申请(专利权)人: | 北京蓝星清洗有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/359 | 分类号: | G01N21/359;G01N21/35;G01N21/65;G01J3/44;G01J3/42 |
| 代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 刘凤玲 |
| 地址: | 101318 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光谱 差异 校正 方法 系统 | ||
1.一种光谱差异校正方法,其特征在于,所述校正方法包括:
获取同一样本不同温度下的光谱;
基于所述光谱确定光谱矩阵;
对所述光谱矩阵进行预处理,得到光谱矩阵P;
基于所述光谱矩阵P,确定温度信号库M、背景信号库H以及光谱温敏信号库W;
所述基于所述光谱矩阵P,确定温度信号库M具体包括:
mi=pi-p1,其中,pi为光谱矩阵P中的向量,i=1,2,3…,p1为光谱矩阵P中的向量,mi为温度信号库M中为不同温度响应区间的光谱的温度响应信号;
获取未知温度样品光谱;
对所述未知温度样本光谱进行预处理得到光谱矩阵u;
基于所述光谱温敏信号库W计算所述光谱矩阵u在区间[a,b]内与所述光谱温敏信号库W中的每一个向量w的夹角;
基于所述夹角确定未知温度样本的温度区间;
使用正交投影或斜投影,以所述背景信号库H为背景,以所述温度信号库M中的向量mi为投影方向进行斜投影计算,得到校正后的光谱u'。
2.根据权利要求1所述的光谱差异校正方法,其特征在于,所述对所述光谱矩阵进行预处理具体采用一阶导数和SNV预处理,其中所述SNV预处理具体采用以下公式:
其中,i=1,2,3…,j=1,2,3…,yij为预处理后的光谱,xij为原始光谱,xi为待预处理光谱的平均光谱,σ为待预处理光谱的标准偏差。
3.根据权利要求1所述的光谱差异校正方法,其特征在于,所述对所述未知温度样本光谱进行一阶导数预处理具体采用Savitzky-Golay方法或者差分方法。
4.根据权利要求1所述的光谱差异校正方法,其特征在于,所述夹角具体采用以下公式计算:
5.一种光谱差异校正系统,其特征在于,所述校正系统包括:
第一光谱获取模块,用于获取同一样本不同温度下的光谱;
光谱矩阵确定模块,用于基于所述光谱确定光谱矩阵;
第一预处理模块,用于对所述光谱矩阵进行预处理,得到光谱矩阵P;
信号库确定模块,用于基于所述光谱矩阵P,确定温度信号库M、背景信号库H以及光谱温敏信号库W;
所述基于所述光谱矩阵P,确定温度信号库M具体包括:
mi=pi-p1,其中,pi为光谱矩阵P中的向量,i=1,2,3…,p1为光谱矩阵P中的向量,mi为温度信号库M中为不同温度响应区间的光谱的温度响应信号;
第二光谱获取模块,用于获取未知温度样品光谱;
第二预处理模块,用于对所述未知温度样本光谱进行预处理得到光谱矩阵u;
夹角计算模块,用于基于所述光谱温敏信号库W计算所述光谱矩阵u在区间[a,b]内与所述光谱温敏信号库W中的每一个向量w的夹角;
温度区间确定模块,用于基于所述夹角确定未知温度样本的温度区间;
投影计算模块,用于使用正交投影或斜投影,以所述背景信号库H为背景,以所述温度信号库M中的向量mi为投影方向进行斜投影计算,得到校正后的光谱u'。
6.根据权利要求5所述的光谱差异校正系统,其特征在于,所述对所述光谱矩阵进行预处理具体采用一阶导数和SNV预处理,其中所述SNV预处理具体采用以下公式:
其中,i=1,2,3…,j=1,2,3…,yij为预处理后的光谱,xij为原始光谱,xi为待预处理光谱的平均光谱,σ为待预处理光谱的标准偏差。
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