[发明专利]一种光谱差异校正方法及系统有效

专利信息
申请号: 201910728930.1 申请日: 2019-08-08
公开(公告)号: CN112432917B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 朱志强;胡振环;冯恩波;任洁;刘建朋 申请(专利权)人: 北京蓝星清洗有限公司
主分类号: G01N21/359 分类号: G01N21/359;G01N21/35;G01N21/65;G01J3/44;G01J3/42
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 刘凤玲
地址: 101318 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 光谱 差异 校正 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种光谱差异校正方法,其特征在于,所述校正方法包括:

获取同一样本不同温度下的光谱;

基于所述光谱确定光谱矩阵;

对所述光谱矩阵进行预处理,得到光谱矩阵P;

基于所述光谱矩阵P,确定温度信号库M、背景信号库H以及光谱温敏信号库W;

所述基于所述光谱矩阵P,确定温度信号库M具体包括:

mi=pi-p1,其中,pi为光谱矩阵P中的向量,i=1,2,3…,p1为光谱矩阵P中的向量,mi为温度信号库M中为不同温度响应区间的光谱的温度响应信号;

获取未知温度样品光谱;

对所述未知温度样本光谱进行预处理得到光谱矩阵u;

基于所述光谱温敏信号库W计算所述光谱矩阵u在区间[a,b]内与所述光谱温敏信号库W中的每一个向量w的夹角;

基于所述夹角确定未知温度样本的温度区间;

使用正交投影或斜投影,以所述背景信号库H为背景,以所述温度信号库M中的向量mi为投影方向进行斜投影计算,得到校正后的光谱u'。

2.根据权利要求1所述的光谱差异校正方法,其特征在于,所述对所述光谱矩阵进行预处理具体采用一阶导数和SNV预处理,其中所述SNV预处理具体采用以下公式:

其中,i=1,2,3…,j=1,2,3…,yij为预处理后的光谱,xij为原始光谱,xi为待预处理光谱的平均光谱,σ为待预处理光谱的标准偏差。

3.根据权利要求1所述的光谱差异校正方法,其特征在于,所述对所述未知温度样本光谱进行一阶导数预处理具体采用Savitzky-Golay方法或者差分方法。

4.根据权利要求1所述的光谱差异校正方法,其特征在于,所述夹角具体采用以下公式计算:

5.一种光谱差异校正系统,其特征在于,所述校正系统包括:

第一光谱获取模块,用于获取同一样本不同温度下的光谱;

光谱矩阵确定模块,用于基于所述光谱确定光谱矩阵;

第一预处理模块,用于对所述光谱矩阵进行预处理,得到光谱矩阵P;

信号库确定模块,用于基于所述光谱矩阵P,确定温度信号库M、背景信号库H以及光谱温敏信号库W;

所述基于所述光谱矩阵P,确定温度信号库M具体包括:

mi=pi-p1,其中,pi为光谱矩阵P中的向量,i=1,2,3…,p1为光谱矩阵P中的向量,mi为温度信号库M中为不同温度响应区间的光谱的温度响应信号;

第二光谱获取模块,用于获取未知温度样品光谱;

第二预处理模块,用于对所述未知温度样本光谱进行预处理得到光谱矩阵u;

夹角计算模块,用于基于所述光谱温敏信号库W计算所述光谱矩阵u在区间[a,b]内与所述光谱温敏信号库W中的每一个向量w的夹角;

温度区间确定模块,用于基于所述夹角确定未知温度样本的温度区间;

投影计算模块,用于使用正交投影或斜投影,以所述背景信号库H为背景,以所述温度信号库M中的向量mi为投影方向进行斜投影计算,得到校正后的光谱u'。

6.根据权利要求5所述的光谱差异校正系统,其特征在于,所述对所述光谱矩阵进行预处理具体采用一阶导数和SNV预处理,其中所述SNV预处理具体采用以下公式:

其中,i=1,2,3…,j=1,2,3…,yij为预处理后的光谱,xij为原始光谱,xi为待预处理光谱的平均光谱,σ为待预处理光谱的标准偏差。

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