[发明专利]基于二氧化钛有机-无机光敏复合薄膜异形凸透镜阵列的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910727738.0 申请日: 2019-08-07
公开(公告)号: CN110441838A 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 张雪花;张玥;张伟;胡芳仁 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G03F7/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 赵淑芳
地址: 210012 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 光敏复合薄膜 凸透镜阵列 异形凸透镜 二氧化钛 母版 制备 凹透镜阵列 有机-无机 光刻技术 光刻胶柱 光学参数 规则排列 压印技术 阵列结构 复合材料 热固化 热回流 软模板 体结构 折射率 浇注 光敏 加热 复制 制作 制造
【权利要求书】:

1.一种基于二氧化钛有机-无机光敏复合薄膜异形凸透镜阵列的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)具有异形图形的铬阵列掩模板在光刻机上接触式曝光,然后在PGEMA的显影液中显影得到柱体阵列结构,然后将所得到的柱体阵列结构在热板上热回流,得到具有凸透镜阵列结构的光刻胶母版;

(2)将PDMS预固物和固化剂按10:1~2的质量比在纸杯中混合搅匀,静置10分钟左右去除大的气泡,再放入真空干燥箱中直至内部气泡完全去除,然后,将其浇注在步骤(1)所制得的母版上烘干固化,最后将固化完全的PDMS剥离,得到具有凹透镜阵列结构的PDMS软模板;

(3)将利用溶胶-凝胶法制得具有紫外光敏特性的二氧化钛有机无机复合薄膜,旋涂在载玻片上作为压印层,然后将步骤(2)制得的PDMS软模板压印到复合薄膜上,并置于氙灯下紫外曝光固化,静置后,将PDMS软模板从完全固化的复合薄膜上剥离,最后压印后的载玻片放入烘箱中干燥,从而在二氧化钛有机无机光敏复合薄膜上制备得到了具有异形的凸透镜阵列。

2.根据权利要求1所述的基于二氧化钛有机-无机光敏复合薄膜异形凸透镜阵列的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中异形图形为正方形或者六边形。

3.根据权利要求1所述的基于二氧化钛有机-无机光敏复合薄膜异形凸透镜阵列的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中接触式曝光时间为60s,显影时间为60s,在热板上热回流的温度是120-160℃,时间是30分钟。

4.根据权利要求1所述的基于二氧化钛有机-无机光敏复合薄膜异形凸透镜阵列的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中固化剂为过氧化物硫化剂。

5.根据权利要求1所述的基于二氧化钛有机-无机光敏复合薄膜异形凸透镜阵列的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中旋涂的转速为500-1000rpm/min,紫外曝光固化时间为30-40分钟,静置1-2个小时。

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