[发明专利]一种多孔聚四氟乙烯覆铜板及其制备方法有效
申请号: | 201910724090.1 | 申请日: | 2019-08-07 |
公开(公告)号: | CN110524977B | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 王可;徐梦雪;王悦辉 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学中山学院 |
主分类号: | B32B15/085 | 分类号: | B32B15/085;B32B15/20;B32B27/08;B32B27/32;B32B27/38;B32B7/12 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 张海文 |
地址: | 528402 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多孔 聚四氟乙烯 铜板 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种多孔聚四氟乙烯覆铜板,由铜箔层、第一粘结层、聚四氟乙烯层、第二粘结层和环氧树脂FR‑4层组成,其中所述铜箔层与聚四氟乙烯层通过第一粘合层进行粘合,所述聚四氟乙烯层与环氧树脂FR‑4层通过第二粘合层进行粘合,其中所述聚四氟乙烯层的上下表面具有多孔结构,孔的尺寸为0.01μm‑1000μm。本发明的多孔聚四氟乙烯覆铜板具有长效粘合性;避免了PCB板在烧结制作过程中产生的高温和有毒气体;其制备方法节能环保,效率高,生产成本低;具有介电常数低,粘合力优异且持久,可广泛应用于5G等高频PCB线路板的制造。
技术领域
本发明属于覆铜板领域,具体涉及一种多孔聚四氟乙烯覆铜板及其制备方法。
背景技术
随着高频通信行业的快速发展,对覆铜板的性能提出越来越苛刻的要求。特别是近年来通讯业的飞速发展,对基板材料的介电性能提出了迫切的要求,必须具备两个重要的性能:低而稳定的介电常数(Dk)和尽可能低的介电损耗(Df),以保证信号的完整性和可靠性。
聚四氟乙烯(PTFE)树脂作为完全对称无支链线的高分子材料,有低的介电常数及介质损耗,已成为高频覆铜板选用的典型树脂。然而,PTFE的自润滑特性、极低的表面能和化学惰性,使其难以与其他材料粘结,使其在覆铜板行业的应用受到了限制。
目前,为了提升PTFE的粘结性能,提出了一些方法包括:化学处理法、高温熔融法、辐射接枝法、低温等离子体处理法、气体热氧化法、激光法、表面改性剂法、新型粘结剂法如:粘结剂包括环氧型、含氟聚合物型、T530单组分粘接剂、SG-P-10双组分粘接剂等。
利用上述方法制造的印制电路板(PCB)覆铜板存在共有的突出问题是粘结缺乏长效性,在过高温烘烤炉或长期使用的过程中,PTFE与铜箔或PTFE与环氧树脂FR-4基板之间会出现起泡、分层等粘结力不足的问题,严重影响PTFE覆铜板的实际应用。
发明内容
针对现有技术存在的问题,本发明的目的之一在于提供一种多孔聚四氟乙烯覆铜板;本发明的另一目的在于提供上述多孔聚四氟乙烯覆铜板的制备方法。
本发明采用以下技术方案:
一种多孔聚四氟乙烯覆铜板,由铜箔层、第一粘结层、聚四氟乙烯层、第二粘结层和环氧树脂FR-4层组成,其中所述铜箔层与聚四氟乙烯层通过第一粘合层进行粘合,所述聚四氟乙烯层与环氧树脂FR-4层通过第二粘合层进行粘合,其中所述聚四氟乙烯层的上下表面具有多孔结构,孔的尺寸为0.01μm-1000μm。
进一步地,所述多孔聚四氟乙烯覆铜板从上至下依次由铜箔层、第一粘结层、聚四氟乙烯层、第二粘结层和环氧树脂FR-4层组成。
进一步地,所述孔是由化学法制备而成,孔尺寸的范围是0.01μm-1000μm,优选地为1μm-100μm,例如1μm、10μm、100μm。
进一步地,所述铜箔层选自电解铜箔的厚度范围是10μm-200μm,优选地为15μm-70μm,例如25μm、35μm、55μm、70μm。
进一步地,所述第一粘结层和/或第一粘结层选自聚醚砜、聚苯硫醚、聚醚醚酮、聚酰亚胺、聚全氟乙丙烯、全氟化烷基乙烯基醚共聚物、低分子PTFE、特氟龙855-101、特氟龙855-103、环氧树脂、酚醛树脂、氰酸酯树脂、双马来酰亚胺树脂、二苯醚树脂及衍生物、芳烷基酚树脂、有机硅树脂或硅酮胶、THIXON(TM)300-EF(由罗门哈斯公司提供)、THIXON(TM)301-EF(由罗门哈斯公司提供)中的一种或多种。
进一步地,所述第一粘结层或第二粘结层的厚度范围是0.01μm-100μm,优选地为10μm-100μm,例如10μm、50μm、100μm。
进一步地,所述聚四氟乙烯层的厚度范围是1μm-10000μm,优选地为10μm-1000μm,例如10μm、100μm、1000μm。
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