[发明专利]一种彩膜基板的制造方法及显示面板

说明书

本发明提出一种彩膜基板的制造方法及显示面板，涉及面板显示领域，所述制造方法包括以下步骤：S1：在基板上形成黑色遮光层；S2：在步骤S1的基础上形成彩色滤光膜层；S3：在步骤S2的基础上形成平坦层；S4：采用第一掩膜版在步骤S3的基础上形成主隔垫物和辅隔垫物。其中，所述第一掩膜版包括非透光区、以及透光率相同的第一透光区和第二透光区，所述第一透光区的开口尺寸大于第二透光区的开口尺寸，所述第一透光区用于形成主隔垫物，所述第二透光区用于形成辅隔垫物。本发明能够在不使用半透膜掩膜版的情况下，制作出具有高度差的主隔垫物与辅隔垫物。

技术领域

本发明属于面板显示领域，具体涉及一种彩膜基板的制造方法及显示面板。

技术背景

当今手机、电脑等显示装置已成为人们生活中必不可少的物品，显示装置中的彩膜基板是显示装置的重要组件，目前的彩膜基板制造成本较高、工艺复杂。

其中，彩膜基板(CF)主要包括玻璃基板、黑色矩阵(BM)、色阻层(RGB)、以及柱状间隔物(PS)等，柱状间隔物又分为主隔垫物(Main PS)和辅隔垫物(Sub PS)。

现有技术在制作彩膜基板的主隔垫物和辅隔垫物时，由于主隔垫物的高度要高于辅隔垫物，需要采用半透膜掩膜版一次制作完成。在制作隔垫物层时，用于形成主隔垫物的掩膜版开口的光透过率为100％，用于形成辅隔垫物的掩膜版开口的光透过率为10～40％。而这种半透膜掩膜版因需在掩膜版上制作半透膜，制作成本昂贵，一般为普通掩膜版的成本的两倍。

发明内容

本发明提供一种彩膜基板的制造方法及显示面板，目的在于降低彩膜基板上隔垫物层的制造成本，本发明能够在不使用半透膜掩膜版的情况下，制作出具有高度差的主隔垫物与辅隔垫物。

本发明的技术方案如下：

本发明公开了一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：

S1：在基板上形成黑色遮光层；

S2：在步骤S1的基础上形成彩色滤光膜层；

S3：在步骤S2的基础上形成平坦层；

S4：采用第一掩膜版在步骤S3的基础上形成主隔垫物和辅隔垫物。

其中，所述第一掩膜版包括非透光区、以及透光率相同的第一透光区和第二透光区，所述第一透光区的开口尺寸大于第二透光区的开口尺寸，所述第一透光区用于形成主隔垫物，所述第二透光区用于形成辅隔垫物。

优选地，所述步骤S4具体包括：

在步骤S3完成的基板上涂覆一层隔垫物层，采用第一掩膜版对隔垫物层进行曝光、显影后形成主隔垫物和辅隔垫物。

优选地，所述第一透光区和第二透光区的透光率为100％。

优选地，当制作隔垫物层所用的材料为光刻胶时，所述第一透光区的开口尺寸大于10μm，第二透光区的开口尺寸范围为5-10μm。

优选地，所述第一透光区和第二透光区的开口形状相同。

优选地，所述第一透光区和第二透光区的开口形状为菱形或正方形或圆形或八角形。

优选地，所述彩色滤光膜层包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层。

本发明还公开了一种显示面板，包括彩膜基板，所述彩膜基板采用上述的制造方法制作而成。

本发明能够带来以下至少一项有益效果：本发明在制作主隔垫物和辅隔垫物时，可以使用开口尺寸不同、透过率相同的普通掩膜版一次成型，相比较现有技术，降低了掩膜版的制作成本，从而降低了彩膜基板的生产成本。

附图说明