[发明专利]一种激光直接刻蚀制备有图案和/或文字的PDLC液晶调光膜的方法

权利要求书

1.一种激光直接刻蚀制备有图案和/或文字的PDLC液晶调光膜的方法,其特征在于所述方法包括以下步骤：

步骤一：通过磁溅控设备，将ITO靶材溅射到PET薄膜上，制备PET-ITO导电膜；

步骤二：将两片PET-ITO导电薄膜安装在PDLC液晶调光膜专用涂布机上，使用设置的PDLC组合物进行涂布、固化，制备PDLC液晶调光膜；

步骤三：使用激光刻蚀机对步骤二制备的PDLC液晶调光膜进行激光刻蚀，在所述PDLC液晶调光膜刻蚀出刻蚀线，所述刻蚀线深度以切断ITO导电薄膜为准；

步骤四：在刻蚀后的PDLC液晶调光膜上的每个ITO1层独立分区或每个ITO2层独立分区，分别制备一个电极。

2.根据权利要求1所述的激光直接刻蚀制备有图案和/或文字的PDLC液晶调光膜的方法，其特征在于步骤三中，所述PDLC液晶调光膜经一次激光刻蚀，在所述ITO1层(7)或ITO2层(9)同时形成完全相同的刻蚀线；所述刻蚀线是直线线段、曲线线段、折线线段、封闭曲线、封闭折线或者是它们的组合。

3.根据权利要求1所述的激光直接刻蚀制备有图案和/或文字的PDLC液晶调光膜的方法，其特征在于所述步骤三，激光头相对于刻蚀对象在XY方向水平移动，水平最大移动速度600mm/S，最大移动加速度为1G；具体刻蚀操作，激光光斑定焦在ITO1层(7)或ITO2层(9)上，距离设备基点垂直距离50-220μm；刻蚀速度1000-4000mm/s，频率20-300KHZ，脉冲宽度5-50ns,点刻蚀时间0.01-0.2ms；优选激光头最大水平移动速度550mm/S，最大移动加速度为0.8G；激光光斑定焦在ITO1层(7)或ITO2层(9)上，距离设备基点垂直距离80-200μm；刻蚀速度1500-3800mm/s，频率50-280KHZ，脉冲宽度8-45ns,点刻蚀时间0.03-0.18ms；更优选激光头水平移动速度500mm/S，最大移动加速度为0.65G；激光光斑定焦在ITO1层(7)或ITO2层(9)上，距离设备基点垂直距离100-180μm；刻蚀速度1800-3500mm/s，频率80-250KHZ，脉冲宽度10-40ns,点刻蚀时间0.05-0.15ms。

4.根据权利要求1至3任意一项所述的激光直接刻蚀制备有图案和/或文字的PDLC液晶调光膜的方法，其特征在于所述步骤二，涂布速度设置为10-50mm/s，UV固化功率调节为0.5mW/cm²～10mW/cm²；优选，涂布速度为25-45mm/s，UV固化功率为3mW/cm²～8.5mW/cm²。

5.根据权利要求1至3任意一项所述的激光直接刻蚀制备有图案和/或文字的PDLC液晶调光膜的方法，其特征在于对于一片已经完成激光刻蚀的PDLC液晶调光膜，设置在ITO1层(7)的电极，纵向布置在调光膜左侧边缘，设置在ITO2层(9)的电极，纵向布置在调光膜右侧边缘；优选的，设置在同侧的并相邻的多个电极制作成一个共同电极(12)。