[发明专利]工艺级误差对微波系统驻波比影响的测量评估方法及系统

权利要求书

1.一种工艺级误差对微波系统驻波比影响的测量及评估方法，其特征在于：包括以下步骤：

S100，构建样件；

S200，测量样件在制造过程中产生的工艺级误差分布区间，具体为：

采用X光照射测量样件，记录测试得到的钎透率β₁，获取钎透率分布区间；

采用3D扫描仪测量样件连接器，记录测试得到的连接器安装偏差β₂，获取偏差分布区间；

采用3D扫描仪测量金丝，记录测试得到的金丝压焊的金丝拱高偏差α₁，获取偏差分布区间；

采用3D扫描仪测量金丝，记录测试得到的金丝键合位置距离偏差α₂，获取偏差分布区间；

S300，更换样件，重复上述步骤，得出该样件4个误差源对驻波比的影响；

S400，测量评估，

首先对误差源进行高斯加权，加权过程如下：

其中取μ＝0，将所有样件的β₁、β₂、α₁和α₂分别代入上式，可得四个误差的权重分布，然后将四个权重归一化，令则有分别用每个样件的β₁、β₂、α₁和α₂取代x_i即可得各个误差对驻波比影响的权重分配；

所述步骤S200中具体测量方法为：

先用探针台固定样件，并将矢量网络分析仪连接到探针台的探针上加载设定频率的电磁波激励；

然后在样件接受激励时，用矢量网络分析仪测出驻波比γ，记录数据并记录此时的β₁、β₂、α₁和α₂值。

2.根据权利要求1所述的一种工艺级误差对微波系统驻波比影响的测量及评估方法，其特征在于：所述设定频率为10-18GHz。

3.一种工艺级误差对微波系统驻波比影响的测量及评估系统，其特征在于：包括

样件构建模块；

测量模块；测量样件在制造过程中产生的工艺级误差，包括钎透率β₁、连接器安装偏差β₂、金丝拱高偏差α₁和金丝键合距离偏差α₂；

更换样件，重复测量步骤，得出该样件4个误差源对驻波比的影响；

测量评估模块；对误差源进行高斯加权，加权过程如下：

其中取μ＝0，将β₁、β₂、α₁和α₂分别代入上式，可得四个误差的权重分布，为了使权重之和为1，须将这四个权重归一化，令则有分别用β₁、β₂、α₁和α₂取代x_i即可得各个误差对驻波比影响的权重分配；

所述测量模块中具体测量方法为：

先用探针台固定样件，并将矢量网络分析仪连接到探针台的探针上加载设定频率的电磁波激励；

然后在样件接受激励时，用矢量网络分析仪测出驻波比γ，记录数据并记录此时的β₁、β₂、α₁和α₂值。

4.根据权利要求3所述的一种工艺级误差对微波系统驻波比影响的测量及评估系统，其特征在于：所述设定频率为10-18GHz。