[发明专利]气体分析仪和气体分析方法

权利要求书

1.一种气体分析仪，具有：至少两个不同的辐射源(10、11、12)；一个探测器(14)；和，包含测量气体(2)的、具有两个镜(5、6)的赫里奥特池(1)，其中，所述辐射源(10、11、12)相关于所述赫里奥特池(1)被布置并定向成，使得从所述辐射源耦入到所述赫里奥特池(1)中并且在所述镜(5、6)之间反射的射束(7、8、9)以沿着椭圆(17、18、19；17’、18’、19’)延伸的光斑图案(20、21、22；20’、21’、22’)投落到所述镜(5、6)上，其中

相互嵌套的所述椭圆(17、18、19；17’、18’、19’)具有位于一共同的对称轴线(23)上的两个共同顶点(24、25)并且还具有不同的顶点，

来自至少两个不同的所述辐射源(10、11、12)的所述射束(7、8、9)

在配属的所述光斑图案(20、21、22；20’、21’、22’)的不同位置(29、30、31)处进入到所述赫里奥特池(1)中，并且/或者

进入到所述赫里奥特池(1)中，使得所述射束沿着所述椭圆(17、18、19；17’、18’、19’)在相反方向上经历配属的所述光斑图案(20、21、22；20’、21’、22’)，

所有的所述射束(7、8、9)在所述共同顶点(24、25；24’)之一的位置处离开所述赫里奥特池(1)，并且投落到所述探测器(14)上，并且其中

至少两个不同的所述辐射源(10、11、12)的所述射束(7、8、9)在所述赫里奥特池(1)中经历不同的路径长度。

2.根据权利要求1所述的气体分析仪，其特征在于，所述椭圆(17、18、19)的所述共同顶点(24、25)是所述椭圆的主顶点。

3.根据权利要求2所述的气体分析仪，其特征在于，外部的椭圆构成一个圆。

4.根据前述权利要求中任一项所述的气体分析仪，其特征在于，设有至少一个另外的辐射源，该另外的辐射源的射束与所述辐射源(10、11、12)中的一个辐射源的射束一起在同一位置处进入到所述赫里奥特池(1)中，使得该另外的辐射源的射束沿着同一个椭圆在与所述一个辐射源的射束的方向相反的方向上经历所述光斑图案。

5.一种气体分析方法，其中，至少两个不同的辐射源(10、11、12)的射束(7、8、9)耦入到一个包含测量气体(2)的赫里奥特池(1)中并且在多次反射之后从所述赫里奥特池中耦出且被探测到，其中，所述射束(7、8、9)定向成，所述射束以沿着椭圆(17、18、19；17’、18’、19’)延伸的光斑图案(20、21、22；20’、21’、22’)投落到镜(5、6)上，其中

相互嵌套的椭圆(17、18、19；17’、18’、19’)具有位于一共同的对称轴线(23)上的两个共同顶点(24、25)并且还具有不同的顶点，

来自至少两个不同的所述辐射源(10、11、12)的射束(7、8、9)

-在配属的光斑图案(20、21、22；20’、21’、22’)的不同位置(29、30、31)处耦入到所述赫里奥特池(1)中，并且/或者

-耦入到所述赫里奥特池(1)中，使得所述射束沿着椭圆(17、18、19’；17’、18’、19’)在相反方向上经历配属的光斑图案(20、21、22；20’、21’、22’)，

所有的所述射束(7、8、9)在所述共同顶点(24、25；24’)之一的位置处耦出，并且其中

至少两个不同的所述辐射源(10、11、12)的所述射束(7、8、9)在所述赫里奥特池(1)中经历不同的路径长度。

6.根据权利要求5所述的气体分析方法，其特征在于，所述射束(7、8、9)在所述椭圆(17、18、19)的一个共同的主顶点(24)的位置处耦出。

7.根据权利要求6所述的气体分析方法，其特征在于，外部的椭圆构成一个圆形。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的气体分析方法，其特征在于，与至少一个所述辐射源(10、11、12)的所述射束一起，另一个辐射源的另一射束在同一位置处耦入到所述赫里奥特池(1)中，使得所述另一射束沿着同一个椭圆在与该射束相反的方向上经历所述光斑图案。