[发明专利]裂解还原反应控制方法、系统及应用

权利要求书

1.一种裂解还原反应控制方法，用于监测裂解还原反应进行的程度，所述裂解还原反应在干燥阶段产生的气相产物经冷凝得到产物水，在干馏反应阶段产生的气相产物经冷凝分离为气体产物和液体产物，其特征在于，

对反应釜中的压力进行恒压控制，反应釜内气体压力始终被控制在负压0.001千帕和正压0.002千帕之间；

在干燥阶段，监测所述产物水的流量，所述产物水的流量低于第一产物水流量阈值的时长超过5分钟或所述产物水的流量低于第二产物水流量阈值时，使所述反应釜内温度逐渐升高至350-550℃进入干馏反应阶段；以及

在干馏反应阶段，监测所述气体产物和/或所述液体产物的流量，所述气体产物和/或所述液体产物的流量低于第一气体/液体流量阈值的时长超过5分钟，或所述气体产物和/或所述液体产物的流量低于第二气体/液体流量阈值时，使所述反应釜内温度逐渐升高至580-700℃进入碳化阶段。

2.根据权利要求1所述裂解还原反应控制方法，其特征在于，

所述恒压控制包括在气体产物的压力大于第一阈值时释放所述气体产物，所述压力小于第二阈值时停止释放所述气体产物。

3.根据权利要求2所述的裂解还原反应控制方法，其特征在于，

所述释放所述气体产物包括根据气体产物的压力控制气体产物泵送装置启动。

4.根据权利要求2所述的裂解还原反应控制方法，其特征在于，所述气体产物的压力通过设置在气体产物收集管路中的压力传感器检测。

5.根据权利要求2所述的裂解还原反应控制方法，其特征在于，所述第一阈值为正压0.002千帕气体，所述第二阈值为负压0.001千帕。

6.一种裂解还原反应控制系统，用于执行权利要求1-5任一项所述的裂解还原反应控制方法，所述裂解还原反应在干馏反应阶段产生的气相产物经冷凝分离为气体产物和液体产物，在所述裂解还原反应在干燥阶段产生的气相产物经冷凝得到产物水，其特征在于，包括

设置在气体产物收集管路中的压力传感器；

以及检测产物水以及所述气体产物和/或所述液体产物的流量的装置。

7.一种前述权利要求1-5中任一项所述的裂解还原反应控制方法及前述权利要求6所述裂解还原反应控制系统的应用，用于处理未经分类的混合生活垃圾。