[发明专利]显影剂调节构件、显影装置、处理盒和电子照相图像形成设备有效

专利信息
申请号: 201910654810.1 申请日: 2019-07-19
公开(公告)号: CN110737181B 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 小川祥宽;奥田满 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 显影剂 调节 构件 显影 装置 处理 电子 照相 图像 形成 设备
【权利要求书】:

1.一种显影剂调节构件,其用于调节承载在显影剂承载体的表面上的显影剂的层的厚度,所述显影剂调节构件包括:与所述显影剂接触的调节部,

其特征在于,所述调节部包含热塑性丙烯酸系树脂,和

所述热塑性丙烯酸系树脂在当使用差示扫描量热法DSC以20.0℃/min的升温速度将温度从-100℃升高至150℃时获得的DSC曲线的微分曲线上,具有在+50℃以上有峰顶的第一吸热峰,和在+20℃以下有峰顶的第二吸热峰。

2.根据权利要求1所述的显影剂调节构件,其中所述热塑性丙烯酸系树脂包含显示所述第一吸热峰的第一聚合物和显示所述第二吸热峰的第二聚合物。

3.根据权利要求2所述的显影剂调节构件,其中所述第一聚合物具有1×104以上且5×104以下的重均分子量。

4.根据权利要求2所述的显影剂调节构件,其中所述第二聚合物具有1×104以上且1×105以下的重均分子量。

5.根据权利要求2所述的显影剂调节构件,其中以基于所述热塑性丙烯酸系树脂的总量为20质量%以上且小于80质量%的含量包含所述第一聚合物。

6.根据权利要求2所述的显影剂调节构件,其中所述第一聚合物包含源自甲基丙烯酸甲酯的重复单元,和所述第二聚合物包含源自丙烯酸正丁酯或丙烯酸2-乙基己酯的重复单元。

7.根据权利要求1所述的显影剂调节构件,其中所述热塑性丙烯酸系树脂为显示所述第一吸热峰的第一高分子嵌段和显示所述第二吸热峰的第二高分子嵌段的嵌段共聚物。

8.根据权利要求7所述的显影剂调节构件,其中所述嵌段共聚物的重均分子量为1×104以上且9×105以下。

9.根据权利要求7所述的显影剂调节构件,其中所述第一高分子嵌段的含量基于所述嵌段共聚物的总量为20质量%以上且小于80质量%。

10.根据权利要求7所述的显影剂调节构件,其中所述第一高分子嵌段包含源自甲基丙烯酸甲酯的重复单元,和所述第二高分子嵌段包含源自丙烯酸正丁酯或丙烯酸2-乙基己酯的重复单元。

11.根据权利要求1所述的显影剂调节构件,其中所述调节部包含导电剂。

12.根据权利要求1所述的显影剂调节构件,其进一步包括支承所述调节部的支承构件,其中将所述调节部配置在所述支承构件的端部或其端部的附近。

13.根据权利要求12所述的显影剂调节构件,其包括:从所述调节部的与所述显影剂接触的接触部朝向向所述接触部供给所述显影剂的一侧延伸的突出部,

其中在从所述接触部至所述突出部的区域上形成沿所述支承构件的厚度方向的台阶,和

所述支承构件延伸至所述突出部的位置。

14.一种显影装置,其特征在于,其包括:

显影剂承载体;

与所述显影剂承载体的表面接触配置的显影剂调节构件;和

贮存显影剂的显影剂容器,

其中所述显影剂调节构件为根据权利要求1至13中任一项所述的显影剂调节构件。

15.一种处理盒,其可拆卸地安装至电子照相图像形成设备的主体,所述处理盒包括:

显影剂承载体;

与所述显影剂承载体的表面接触配置的显影剂调节构件;和

贮存显影剂的显影剂容器,

其特征在于,所述显影剂调节构件为根据权利要求1至13中任一项所述的显影剂调节构件。

16.一种电子照相图像形成设备,其包括:

显影剂承载体;

与所述显影剂承载体的表面接触配置的显影剂调节构件;和

贮存显影剂的显影剂容器,

其特征在于,所述显影剂调节构件为根据权利要求1至13中任一项所述的显影剂调节构件。

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