[发明专利]一种石英晶片清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种石英晶片清洗装置，其特征在于，包括主箱体(100)，所述主箱体(100)中设置有上箱体(200)和下箱体(300)，所述主箱体(100)中安装有第一传动机构，所述第一传动机构用于带动上箱体(200)在竖直方向运动，所述上箱体(200)中安装有第二传动机构和第三传动机构，所述第二传动机构用于带动第三传动机构上下往复运动，所述第三传动机构上安装有机械臂(26)，所述第三传动机构用于带动机械臂(26)转动，所述机械臂(26)穿过上箱体(200)，所述机械臂(26)下端安装有用于盛放石英晶片的花篮托盘(32)；所述下箱体(300)中设置有清洗槽(42)，所述清洗槽(42)下部安装座上安装有震动板(41)，震动板(41)内部安装有超声波换能器。

2.根据权利要求1所述的一种石英晶片清洗装置，其特征在于，所述第一传动机构包括安装在主箱体(100)内壁的第一伺服电机(20)，所述第一伺服电机(20)的动力输出轴上安装有滚珠丝杠副，所述滚珠丝杠副的丝杠螺母(8)与螺母座(7)固定连接，所述螺母座(7)固定连接在连接板(4)上，连接板(4)与上箱体(200)固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种石英晶片清洗装置，其特征在于，所述第二传动机构包括第二伺服电机(9)，所述第二伺服电机(9)的动力输出轴上安装有凸轮轴(11)，所述凸轮轴(11)上安装有凸轮(35)，所述凸轮(35)与其从动件凸轮滚子(33)线接触，所述凸轮滚子(33)固定在平台支架(30)上，所述平台支架(30)上安装有第三传动机构。

4.根据权利要求3所述的一种石英晶片清洗装置，其特征在于，所述平台支架(30)安装在导柱(36)上，所述平台支架(30)能够沿导柱(36)滑动，所述导柱(36)固定在支撑板(37)上。

5.根据权利要求3所述的一种石英晶片清洗装置，其特征在于，所述第三传动机构包括安装在平台支架(30)上的第三伺服电机(21)，所述第三伺服电机(21)的输出轴通过链传动驱动机械臂(26)转动，所述机械臂(26)末端安装有用于盛放石英晶片的花篮托盘(32)，所述链传动的主动链轮(23)的直径小于从动链轮(25)的直径。

6.根据权利要求1所述的一种石英晶片清洗装置，其特征在于，所述花篮托(32)包括花篮盘(43)、花篮加强筋(44)和花篮过渡连杆(45)，所述花篮过渡连杆(45)上端与机械臂固定连接，花篮过渡连杆(45)下端与花篮盘(43)固定连接，花篮盘(43)上端面沿周向均布有多个花篮加强筋(44)，相邻的两个花篮加强筋(44)之间设置有容置凹槽(47)，所述容置凹槽(47)用于放置晶片片盒。

7.根据权利要求1所述的一种石英晶片清洗装置，其特征在于，所述上箱体(200)内设置有用于增加上箱体(200)的承力能力的第一加强筋(17)。

8.根据权利要求1所述的一种石英晶片清洗装置，其特征在于，所述清洗槽(42)由聚偏氟乙烯材料制成，所述超声波震动板(41)表面镀有防腐材料。

9.基于权利要求1所述的一种石英晶片清洗装置的石英晶片清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一：将待清洗的石英晶片放入花篮托盘(32)中，利用第一传动机构使花篮托盘(32)向下运动至清洗槽(42)中的清洗液液面下设定位置；

步骤二：机械臂(26)带动花篮托盘(32)在清洗槽(42)中的酸液中上下往复运动和转动，超声波在清洗液中产生空化及直进流作用，产生冲击力对石英晶片进行清洗；

步骤三：清洗完毕后，第一传动机构带动花篮托盘(32)向上运动，到达初始启动位置；

步骤四：将换清洗槽(42)替换为水槽，水槽中盛放有水；

步骤五、重复步骤一至步骤四，对石英晶片进行水洗。

10.根据权利要求9所述的一种石英晶片清洗方法，其特征在于，步骤一中，所用清洗液为体积浓度为5％～10％的氢氟酸。