[发明专利]一种铁电晶体矫顽场的非接触式光学测量装置和方法

权利要求书

1.一种铁电晶体矫顽场的非接触式光学测量装置，其特征在于，包括交流电压源(1)、控温箱(2)、激光器(3)、光电探测器(4)、数字示波器(5)和计算机(6)；

控温箱(2)设有2个通光孔(2-1)，铁电晶体(7)位于控温箱(2)内，激光器(3)输出的连续激光通过一个通光孔(2-1)入射至铁电晶体(7)，铁电晶体(7)透射的光通过另一个通光孔(2-1)入射至光电探测器(4)的光敏面，光电探测器(4)的输出端连接数字示波器(5)的输入端，数字示波器(5)的透射光强度输出端连接计算机(6)的透射光强度输入端；

交流电压源(1)用于为铁电晶体(7)施加交流电压；

计算机(6)用于控制交流电压源(1)输出电压的频率和幅值，还用于计算施加的电场，并存储施加的电场及数字示波器(5)输出的透射光强度。

2.根据权利要求1所述的一种铁电晶体矫顽场的非接触式光学测量装置，其特征在于，所述铁电晶体(7)的尺寸大于2mm×2mm×0.5mm。

3.根据权利要求1所述的一种铁电晶体矫顽场的非接触式光学测量装置，其特征在于，还包括反射镜(8)；

激光器(3)输出的连续激光经反射镜(8)反射至铁电晶体(7)。

4.根据权利要求1所述的一种铁电晶体矫顽场的非接触式光学测量装置，其特征在于，还包括衰减片(9)；

激光器(3)输出的连续激光经衰减片(9)功率衰减后入射至铁电晶体(7)。

5.根据权利要求1所述的一种铁电晶体矫顽场的非接触式光学测量装置，其特征在于，还包括第一凸透镜(10)；

第一凸透镜(10)使连续激光聚焦在铁电晶体(7)内部。

6.根据权利要求1所述的一种铁电晶体矫顽场的非接触式光学测量装置，其特征在于，还包括第二凸透镜(11)；

第二凸透镜(11)将铁电晶体(7)透射的光聚焦在光电探测器(4)的光敏面。

7.一种铁电晶体矫顽场的非接触式光学测量方法，其特征在于，该方法包括：

步骤一、交流电压源(1)为铁电晶体(7)施加交流电压，激光器(3)输出的连续激光入射至铁电晶体(7)，计算机(6)存储施加的电场及数字示波器(5)输出的透射光强度；

步骤二、以施加的电场为横坐标、归一化的透射光强度为纵坐标，将纵坐标数据对横纵坐标数据求一阶导数并取绝对值，绝对值最大值对应的电场即为铁电晶体(7)的矫顽场；

该方法基于上述任意一项权利要求所述的一种铁电晶体矫顽场的非接触式光学测量装置实现。

8.根据权利要求7所述的一种铁电晶体矫顽场的非接触式光学测量方法，其特征在于，该方法还包括：在步骤一之前对待测铁电晶体进行晶体学定向，然后按晶体学方向进行切割，再依次进行被电极和抛光处理，得到满足要求的铁电晶体(7)。