[发明专利]光罩结构、阴极膜层的形成方法及阵列基板上的阴极膜层

说明书

本发明涉及一种光罩结构、阴极膜层的形成方法及阵列基板上的阴极膜层。该光罩结构包括：第一光罩本体，具有多个第一开孔，多个第一开孔是与多列像素定义层开口间隔对应设置的，各个第一开孔的侧边还间隔设置有多个向外凸起的第三开孔，当多个第一开孔与多列像素定义层开口对应设置时，多个第三开孔位于相邻二列像素定义层开口之间；以及第二光罩本体，具有多个第二开孔，多个第二开孔是与多列像素定义层开口间隔对应设置的，并与多个第一开孔是对应于不同列像素定义层开口。本发明通过将阴极膜层图案化覆盖像素定义层(PDL)开孔区域，通过部分非像素定义层(PDL)开口区裸露，提高嵌板(panel)整体透过率，有利于实现透明显示。

技术领域

本发明涉及一种阴极膜层，特别是涉及一种光罩结构、阴极膜层的形成方法及阵列基板上的阴极膜层。

背景技术

透明显示技术未来的发展前景非常乐观。它突破常规，增添了产品的趣味性，带给人们前所未有的便利和视觉冲击，在一些创意设计、展示及互动领域开展了新的发展方向。此外，由于透明显示屏可利用普通的环境光满足背光需求，极大降低了能耗，充分体现了“低碳环保·绿色节能”的理念。

在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：

1、请参考图9，现有技术的透明显示屏内部的阴极(Cathode)膜层8透过率低，且其覆盖可视区域(View Area，AA)7，导致透明显示屏内部的有机发光二极管的出光较难穿透阴极膜层；

2、阴极膜层8整面覆盖可视区域7，导致外界光较难穿透嵌板(panel)整个膜层，难以看到屏幕背后景象，降低透明显示屏的透过率。

发明内容

为解决上述现有技术中存在的问题，本发明实施例提供了一种光罩结构、阴极膜层的形成方法及阵列基板上的阴极膜层。具体的技术方案如下：

第一方面，提供一种光罩结构，用于在阵列基板上蒸镀阴极膜层，阵列基板上设置有多列像素定义层开口，其中光罩结构包括：

第一光罩本体，具有多个第一开孔，多个第一开孔是与多列像素定义层开口间隔对应设置的，各个第一开孔的侧边还间隔设置有多个向外凸起的第三开孔，当多个第一开孔与多列像素定义层开口对应设置时，多个第三开孔位于相邻二列像素定义层开口之间；以及

第二光罩本体，具有多个第二开孔，多个第二开孔是与多列像素定义层开口间隔对应设置的，并与多个第一开孔是对应于不同列像素定义层开口，各个第二开孔的侧边还间隔设置有多个向外凸起的第四开孔，当多个第二开孔与多列像素定义层开口对应设置时，多个第四开孔位于相邻二列像素定义层开口之间，并与第三开孔的位置相重叠。

在第一方面的第一种可能实现方式中，第一光罩本体及第二光罩本体的形状与阵列基板的形状相对应。

在第一方面的第二种可能实现方式中，多个第一开孔、多个第二开孔、多个第三开孔及多个第四开孔均为长方形孔。

在第一方面的第三种可能实现方式中，各个第三开孔与各个第一开孔相对应列像素定义层开口中的相邻二个像素定义层开口之间的位置相对应；各个第四开孔与各个第二开孔相对应列像素定义层开口中的相邻二个像素定义层开口之间的位置相对应。

第二方面，提供一种阴极膜层的形成方法，于阵列基板上形成阴极膜层，其中阴极膜层的形成方法包括以下步骤：

于阵列基板上形成第一阴极膜层，使第一阴极膜层覆盖于阵列基板上的间隔列像素定义层开口上；以及

于阵列基板上形成第二阴极膜层，使第二阴极膜层覆盖于阵列基板上的间隔列像素定义层开口上，并与第一阴极膜层覆盖于不同列像素定义层开口,及使相邻二列像素定义层开口之间，第一阴极膜层与第二阴极膜层形成间隔的重叠部。

在第二方面的第一种可能实现方式中，形成第一阴极膜层的方法还包括以下步骤：