[发明专利]一种改善mark点隐裂的方法在审
| 申请号： | 201910617679.1 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN110465755A | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 顾成阳;李影;宛正 | 申请（专利权）人： | 阜宁苏民绿色能源科技有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/53 | 分类号： | B23K26/53 |
| 代理公司： | 32224 南京纵横知识产权代理有限公司 | 代理人： | 董建林<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 224400 江苏省盐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 横线 竖线 隐裂 激光器参数 垂直距离 激光能量 激光扫描 内部参数 内部控制 外部控制 不重叠 激光器 重叠处 硅片 两段 相等 制备 叠加 垂直 印刷 | ||
1.一种改善mark点隐裂的方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、调整激光器参数，激光器的Power Factor设置为50、PRF设置为0；
步骤二、以激光器扫描制备四个mark点，mark点由一条横线和两条竖线组成，两条竖线分别位于横线的两侧，竖线垂直于横线且位于横线的中心线上，两条竖线的靠近横线的端点到横线的垂直距离相等且大于零；
步骤三、四个mark点均位于硅片表面，将四个mark点作为印刷对位点；
步骤四、用激光扫描制备栅线，用于正电极印刷机台套印。
2.根据权利要求1所述的一种改善mark点隐裂的方法，其特征在于，所述mark点的画法包括以下步骤：
a、横向画一条直线，设该横线中点的坐标为(0，0)，横线长度为0.5mm；
b、在横线上方画一条竖线，该竖线的中点坐标为(0，0.14)，长度为0.22mm；
c、在横线下方画一条竖线，该竖线的中点坐标为(0，-0.14)，长度为0.22mm；
d、组合上述一条横线与两条竖线，形成mark点，并复制三个mark点。
3.根据权利要求1所述的一种改善mark点隐裂的方法，其特征在于，所述硅片的中心点设为坐标原点(0，0)，所述四个mark点的坐标分别为(-62.4，66.43)，(62.4，66.43)，(62.4，-66.43)，(-62.4，-66.43)。
4.根据权利要求1所述的一种改善mark点隐裂的方法，其特征在于，所述激光器进行激光扫描时，频率为130kHz，Power Factor为130kHz，进给速度为200mm/s，功率100％。
5.根据权利要求1所述的一种改善mark点隐裂的方法，其特征在于，所述mark点中，两条竖线的远离横线的端点之间的垂直距离与横线的长度相等。
6.根据权利要求1所述的一种改善mark点隐裂的方法，其特征在于，所述竖线的靠近横线的端点到横线的垂直距离范围为0.03～0.04mm。
7.根据权利要求1所述的一种改善mark点隐裂的方法，其特征在于，所述四个mark点分别位于所述硅片的四角上。
8.根据权利要求1所述的一种改善mark点隐裂的方法，其特征在于，所述mark点中，横线长度为0.5mm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阜宁苏民绿色能源科技有限公司，未经阜宁苏民绿色能源科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910617679.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
