[发明专利]一种弯晶谱仪测量受振动影响的消除方法及弯晶谱仪装置在审
| 申请号： | 201910617593.9 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN110361406A | 公开（公告）日： | 2019-10-22 |
| 发明（设计）人： | 严伟;王铎钦;陈忠勇 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01N23/207 | 分类号： | G01N23/207 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 曹葆青;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 晶谱仪 晶体腔 探测器 出射臂 谐振 减振平台 振动影响 测量 入射臂 托卡马克装置 探测器像素 多普勒 平移 测量影响 同一水平 相对振动 依次连接 振动振幅 波纹管 支撑架 减振 腔体 探测 隔离 一体化 保证 | ||
1.一种弯晶谱仪测量受振动影响的消除方法，所述弯晶谱仪包括位于同一水平高度且依次连接的入射臂、波纹管、晶体腔体、出射臂和探测器，其特征在于，通过谐振安装的方式安装所述弯晶谱仪，具体为：
将所述入射臂固定于第一支撑架上，其中，所述第一支撑架设置于地面上；
将所述晶体腔体、所述出射臂和所述探测器分别固定于减振平台上，其中，所述减振平台设置于地面上且与地面减振隔离。
2.根据权利要求1所述的一种弯晶谱仪测量受振动影响的消除方法，其特征在于，所述晶体腔体、所述出射臂和所述探测器分别通过第二支撑架固定安装在所述减振平台上，其中，所述第二支撑架高度可调。
3.根据权利要求1所述的一种弯晶谱仪测量受振动影响的消除方法，其特征在于，所述减振平台为光学平台。
4.根据权利要求1所述的一种弯晶谱仪测量受振动影响的消除方法，其特征在于，所述减振平台的台面材料为无磁材料。
5.根据权利要求1所述的一种弯晶谱仪测量受振动影响的消除方法，其特征在于，所述减振平台的底部设有多个隔振支撑柱，每个所述隔振支撑柱高度可调。
6.根据权利要求5所述的一种弯晶谱仪测量受振动影响的消除方法，其特征在于，每个所述隔振支撑柱的底部设有隔振垫。
7.根据权利要求1至6任一项所述的一种弯晶谱仪测量受振动影响的消除方法，其特征在于，所述波纹管为软波纹管。
8.一种弯晶谱仪装置，其特征在于，采用权利要求1至7任一项所述的一种弯晶谱仪测量受振动影响的消除方法安装得到。
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