[发明专利]一种高α相氮化硅粉体、超长氮化硅纳米线的制备方法有效
申请号: | 201910617455.0 | 申请日: | 2019-07-09 |
公开(公告)号: | CN110436934B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 尹传强;周浪;李晓敏;魏秀琴;兰宇 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
主分类号: | C04B35/591 | 分类号: | C04B35/591;C04B35/626;D01F9/08 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 许莹莹 |
地址: | 330000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氮化 硅粉体 超长 纳米 制备 方法 | ||
1.一种高α相氮化硅粉体、超长氮化硅纳米线的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将平均粒径小于3μm的硅粉松装入陶瓷匣钵内,硅粉松装厚度为20-60mm,并放置于气氛炉内;
(2)以氨气100ml/min的流量排气20-60分钟;以2-10℃/min的升温速率升温至1200-1280℃,保温1-10小时进行氧化、氮化预处理;随后关闭氨气阀,同时打开氮气、氩气和氢气,气体流量比为N2:Ar:H2=(10-30)ml/min:(65-85)ml/min:5ml/min,在此温度下继续保温1-8小时;随后以0.1-2℃/min的升温速率升温至1350-1380℃,在此升温阶段温度范围内设置3-6个保温平台;进入各保温平台后,调节N2:Ar:H2气体比例,随温度平台升高,逐步降低Ar气比例,升高N2气比例;各保温平台下,恒温时间1-10小时;至最后一个保温平台,将N2:Ar:H2调节至95ml/min:0ml/min:5ml/min;随炉冷却,得到合成产物堆积体;
(3)合成产物堆积体表面附有大量超长氮化硅纳米线,剥离超长氮化硅纳米线后,剩余合成产物为疏松状、高α相氮化硅软块;将疏松的剩余合成产物进行细化处理,可得高α相氮化硅粉体。
2.根据权利要求1所述一种高α相氮化硅粉体、超长氮化硅纳米线的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)的硅粉为平均粒径为0.6-3μm。
3.根据权利要求1所述一种高α相氮化硅粉体、超长氮化硅纳米线的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)所用匣钵材质为高纯刚玉、碳化硅、氮化硅、氮化硅结合碳化硅中的任意一种。
4.根据权利要求1所述一种高α相氮化硅粉体、超长氮化硅纳米线的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)所通氨气、氮气、氩气、氢气均为高纯气体,纯度均为99.99-99.9999%。
5.根据权利要求1所述一种高α相氮化硅粉体、超长氮化硅纳米线的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)的细化处理为球磨、砂磨、振动磨、气流磨中的任意一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌大学,未经南昌大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910617455.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。