[发明专利]一种有机半导体激光产生方法及装置有效
| 申请号: | 201910611842.3 | 申请日: | 2019-07-08 |
| 公开(公告)号: | CN110504619B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
| 发明(设计)人: | 陶国华;谭云舒 | 申请(专利权)人: | 北京大学深圳研究生院 |
| 主分类号: | H01S5/36 | 分类号: | H01S5/36 |
| 代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
| 地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 有机半导体 激光 产生 方法 装置 | ||
1.一种有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述有机半导体激光产生方法包括:
当有机半导体基态电子接收到电信号后,所述有机半导体基态电子激发到激发态;
调控声子,通过电子与声子的直接耦合达到电荷传输态;
通过电子与声子直接耦合发生单线态裂分,达到亚稳定的多激子中间态,产生粒子数反转;
所述有机半导体基态电子不断从多激子中间态跃迁回基态,控制有机半导体层产生激光。
2.根据权利要求1所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述通过电子与声子直接耦合发生单线态裂分,达到亚稳定的多激子中间态,产生粒子数反转具体包括:
体系的哈密顿量为:
H=Hel+Hph+Hel-ph;
电子哈密顿量为:Hel=∑k|kEkk|+∑l≠k|kEkll|;
声子哈密顿量为:
电声子耦合项为:Hel-ph=∑k|kk|∑j(-ckjQkj);
其中,Ek为第k个电子态的能量,Ekl为第k个电子态耦合的能量,l表示第l个电子态,(Qkj,Pkj)为与第k个电子态耦合的第j个声子热浴模在相空间中的点,ωkj,ckj分别其对应的频率和耦合常数,Nb是与每个电子态耦合的热浴模的数目;
|k表示第k个电子态的右矢,为希尔伯特空间中的矢量,表示量子力学中的一个态;k|表示第k个电子态的左矢,表示对偶矢量空间中的矢量;l|第l个电子态的左矢。
3.根据权利要求2所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,采用经典映射理论的活化态轨线方法描述电声子耦和动力学,其中,经典映射理论的哈密顿量为:
其中,为第k个态的布局数,Hkk为第k个态的哈密顿量矩阵元,(xkxl+pkpl)为第k个态与第l个态间的相干耦合项的布局数,Hkl为第k个态与第l个态间的相干耦合项,(x,p),(Q,P)分别是经典电子及核自由度的坐标及动量,γ为描述有效零点能的参数,γ=1/2,或者
4.根据权利要求3所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述活化态轨线方法的运动方程为:
其中,
Bmk,Bml,Blk为其对应的电子系数矩阵,其中Hmk为第m个态与第k个态相耦合的哈密顿量,Hact,Pact,Qact分别为活化态的哈密顿量、核动量和坐标。
5.根据权利要求4所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述活化态由如下窗口函数确定:
其中,
其中,Δn=2γ为窗口宽度,η(x)为阶梯函数,为电子布局变量,Nk为量子态数,k为态指标。
6.根据权利要求5所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,选取声子谱密度函数为德拜形式:
其中,λ为重组能,ω为频率,ωc为特征频率。
7.根据权利要求6所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述λ=100meV及ωc=180meV。
8.根据权利要求1所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述多激子中间态与所述激发态之间的带隙为1.5eV-2.5eV。
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