[发明专利]一种有机半导体激光产生方法及装置有效

专利信息
申请号: 201910611842.3 申请日: 2019-07-08
公开(公告)号: CN110504619B 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 陶国华;谭云舒 申请(专利权)人: 北京大学深圳研究生院
主分类号: H01S5/36 分类号: H01S5/36
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 有机半导体 激光 产生 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述有机半导体激光产生方法包括:

当有机半导体基态电子接收到电信号后,所述有机半导体基态电子激发到激发态;

调控声子,通过电子与声子的直接耦合达到电荷传输态;

通过电子与声子直接耦合发生单线态裂分,达到亚稳定的多激子中间态,产生粒子数反转;

所述有机半导体基态电子不断从多激子中间态跃迁回基态,控制有机半导体层产生激光。

2.根据权利要求1所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述通过电子与声子直接耦合发生单线态裂分,达到亚稳定的多激子中间态,产生粒子数反转具体包括:

体系的哈密顿量为:

H=Hel+Hph+Hel-ph

电子哈密顿量为:Hel=∑k|kEkk|+∑l≠k|kEkll|;

声子哈密顿量为:

电声子耦合项为:Hel-ph=∑k|kk|∑j(-ckjQkj);

其中,Ek为第k个电子态的能量,Ekl为第k个电子态耦合的能量,l表示第l个电子态,(Qkj,Pkj)为与第k个电子态耦合的第j个声子热浴模在相空间中的点,ωkj,ckj分别其对应的频率和耦合常数,Nb是与每个电子态耦合的热浴模的数目;

|k表示第k个电子态的右矢,为希尔伯特空间中的矢量,表示量子力学中的一个态;k|表示第k个电子态的左矢,表示对偶矢量空间中的矢量;l|第l个电子态的左矢。

3.根据权利要求2所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,采用经典映射理论的活化态轨线方法描述电声子耦和动力学,其中,经典映射理论的哈密顿量为:

其中,为第k个态的布局数,Hkk为第k个态的哈密顿量矩阵元,(xkxl+pkpl)为第k个态与第l个态间的相干耦合项的布局数,Hkl为第k个态与第l个态间的相干耦合项,(x,p),(Q,P)分别是经典电子及核自由度的坐标及动量,γ为描述有效零点能的参数,γ=1/2,或者

4.根据权利要求3所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述活化态轨线方法的运动方程为:

其中,

Bmk,Bml,Blk为其对应的电子系数矩阵,其中Hmk为第m个态与第k个态相耦合的哈密顿量,Hact,Pact,Qact分别为活化态的哈密顿量、核动量和坐标。

5.根据权利要求4所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述活化态由如下窗口函数确定:

其中,

其中,Δn=2γ为窗口宽度,η(x)为阶梯函数,为电子布局变量,Nk为量子态数,k为态指标。

6.根据权利要求5所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,选取声子谱密度函数为德拜形式:

其中,λ为重组能,ω为频率,ωc为特征频率。

7.根据权利要求6所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述λ=100meV及ωc=180meV。

8.根据权利要求1所述的有机半导体激光产生方法,其特征在于,所述多激子中间态与所述激发态之间的带隙为1.5eV-2.5eV。

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