[发明专利]一种耐溶胀二维SA-MXene层状纳滤膜、制备及应用

权利要求书

1.一种耐溶胀二维SA-MXene层状纳滤膜制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一：将MXene前驱体粉末与刻蚀剂溶液混合，搅拌反应，充分洗涤，离心后收集上液，得到稳定的二维MXene纳米片胶体溶液，刻蚀剂为盐酸与氟盐混合溶液；

步骤二：将二维MXene纳米片胶体溶液中加入海藻酸钠粉体，搅拌混合均匀，得到SA-MXene纳米片；

步骤三：将SA-MXene纳米片通过层层堆叠的方法堆叠于多孔基底表面制得薄膜，随后将所得的薄膜置于多价金属溶液中进行交联，得到耐溶胀二维SA-MXene层状纳滤膜；

步骤一中的MXene前驱体为Ti₃AlC₂、Ti₂AlC、V₂AlC、Ti₃SiC₂、Ti₄AlN₃或Nb₄AlC₃；

步骤一中的MXene前驱体与刻蚀剂的质量比为1：1～1：5，反应温度为30～45℃，搅拌时间为24～36小时，离心转速为3500～4000rpm；

步骤二中的海藻酸钠的黏度为200～1000mPa.s，质量为二维MXene纳米片质量的1～5％，搅拌时间为8～12小时。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤三中的多孔基底为聚偏氟乙烯膜、混合纤维素酯膜、聚丙烯膜或阳极氧化铝滤膜，多孔基底的孔径为100～450nm。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤三中的多价金属溶液为氯化锰、氯化钙、氯化钡或氯化锡溶液，浓度为10～20g/L，交联时间为2～5小时。

4.一种耐溶胀二维SA-MXene层状纳滤膜，其特征在于，所述的耐溶胀二维SA-MXene层状纳滤膜采用如权利要求1～3任一权利要求所述的耐溶胀二维SA-MXene层状纳滤膜制备方法制备。

5.如权利要求1～3任一项权利要求所述的耐溶胀二维SA-MXene层状纳滤膜制备方法制得的耐溶胀二维SA-MXene层状纳滤膜在过滤分离领域中的应用。